Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) von Diamant wird ein chemischer Prozess verwendet, um in einer kontrollierten Umgebung einen Diamantfilm oder eine Diamantbeschichtung zu synthetisieren. Bei diesem Verfahren wird ein Gasgemisch, das typischerweise Kohlenwasserstoffgase wie Methan enthält, zusammen mit einem Substratmaterial wie Molybdänwafern oder Diamantwafern in eine Reaktionskammer eingeleitet. Das Gas wird dann durch verschiedene Mittel wie Hitze oder Plasma aktiviert, um Kohlenwasserstoffmoleküle aufzuspalten und Kohlenstoffatome auf dem Substrat abzulagern, was zum Wachstum von Diamantkristallen führt.

Das CVD-Verfahren von Diamant bietet mehrere Vorteile, darunter die Möglichkeit, hochwertige Diamantbeschichtungen mit präziser Kontrolle von Dicke, Gleichmäßigkeit und Zusammensetzung herzustellen. Es ermöglicht auch die Abscheidung von Diamantfilmen auf einer Vielzahl von Substratmaterialien und ermöglicht so die Herstellung diamantbeschichteter Teile für eine Vielzahl von Industrie- und Forschungsanwendungen.

Insgesamt ist das CVD-Diamantverfahren eine vielseitige und weit verbreitete Technik zur Herstellung synthetischer Diamantfilme und -beschichtungen mit maßgeschneiderten Eigenschaften, was sie in Branchen wie Elektronik, Schneidwerkzeugen und verschleißfesten Beschichtungen wertvoll macht.