Hochreines Ionenimplantations-Wolframfilament
Ionenimplantations-Wolframdraht ist eine Schlüsselkomponente, die in Ionenimplantationsmaschinen, hauptsächlich in Halbleiterherstellungsprozessen, verwendet wird. Diese Art von Wolframdraht spielt eine wichtige Rolle in Halbleitergeräten und seine Qualität und Leistung wirken sich direkt auf die Effizienz von IC-Prozesslinien aus. Die Ionenimplantationsmaschine ist eine Schlüsselausrüstung im Herstellungsprozess von VLSI (Very Large Scale Integrated Circuit), und die Rolle des Wolframdrahts als Ionenquelle kann nicht ignoriert werden.
| Abmessungen | Wie deine Zeichnungen |
| Herkunftsort | Luoyang, Henan |
| Markenname | REA |
| Anwendung | Halbleiter |
| Oberfläche | Schwarze Haut, Alkaliwäsche, Autoglanz, poliert |
| Reinheit | 99,95 % |
| Material | W1 |
| Dichte | 19,3 g/cm3 |
| Ausführungsstandards | GB/T 4181-2017 |
| Schmelzpunkt | 3400℃ |
| Gehalt an Verunreinigungen | 0,005 % |
| Hauptkomponenten | W > 99,95 % |
| Verunreinigungsgehalt≤ | |
| Pb | 0,0005 |
| Fe | 0,0020 |
| S | 0,0050 |
| P | 0,0005 |
| C | 0,01 |
| Cr | 0,0010 |
| Al | 0,0015 |
| Cu | 0,0015 |
| K | 0,0080 |
| N | 0,003 |
| Sn | 0,0015 |
| Si | 0,0020 |
| Ca | 0,0015 |
| Na | 0,0020 |
| O | 0,008 |
| Ti | 0,0010 |
| Mg | 0,0010 |
1. Unsere Fabrik befindet sich in der Stadt Luoyang, Provinz Henan. Luoyang ist ein Produktionsgebiet für Wolfram- und Molybdänminen, daher haben wir absolute Qualitäts- und Preisvorteile;
2. Unser Unternehmen verfügt über technisches Personal mit über 15 Jahren Erfahrung und wir bieten gezielte Lösungen und Vorschläge für die Bedürfnisse jedes Kunden.
3. Alle unsere Produkte werden vor dem Export einer strengen Qualitätskontrolle unterzogen.
4. Wenn Sie fehlerhafte Ware erhalten, können Sie uns für eine Rückerstattung kontaktieren.
1. Auswahl des Rohmaterials
(Wählen Sie hochwertige Wolframrohstoffe aus, um die Reinheit und die mechanischen Eigenschaften des Endprodukts sicherzustellen. )
2. Schmelzen und Reinigen
(Ausgewählte Wolframrohstoffe werden in einer kontrollierten Umgebung geschmolzen, um Verunreinigungen zu entfernen und die gewünschte Reinheit zu erreichen.)
3. Drahtziehen
(Gereinigtes Wolframmaterial wird durch eine Reihe von Düsen extrudiert oder gezogen, um den erforderlichen Drahtdurchmesser und die erforderlichen mechanischen Eigenschaften zu erreichen.)
4.Glühen
(Der gezogene Wolframdraht wird geglüht, um innere Spannungen zu beseitigen und seine Duktilität und Verarbeitungsleistung zu verbessern )
5. Ionenimplantationsprozess
In diesem speziellen Fall kann der Wolframfaden selbst einem Ionenimplantationsprozess unterzogen werden, bei dem Ionen in die Oberfläche des Wolframfadens injiziert werden, um seine Eigenschaften zu ändern und die Leistung des Ionenimplantators zu verbessern.)
Bei der Herstellung von Halbleiterchips ist die Ionenimplantationsmaschine eine der Schlüsselausrüstungen, mit der der Schaltplan des Chips von der Maske auf den Siliziumwafer übertragen und die Zielfunktion des Chips erreicht wird. Dieser Prozess umfasst Schritte wie chemisch-mechanisches Polieren, Dünnfilmabscheidung, Fotolithographie, Ätzen und Ionenimplantation, wobei die Ionenimplantation eines der wichtigen Mittel zur Verbesserung der Leistung von Siliziumwafern ist. Der Einsatz von Ionenimplantationsmaschinen kontrolliert effektiv Zeit und Kosten der Chipproduktion und verbessert gleichzeitig die Leistung und Zuverlässigkeit von Chips.
Ja, Wolframfilamente sind während des Ionenimplantationsprozesses anfällig für Verunreinigungen. Eine Kontamination kann aufgrund einer Vielzahl von Faktoren auftreten, beispielsweise durch Restgase, Partikel oder Verunreinigungen in der Ionenimplantationskammer. Diese Verunreinigungen können an der Oberfläche des Wolframfadens haften, dessen Reinheit beeinträchtigen und möglicherweise die Leistung des Ionenimplantationsprozesses beeinträchtigen. Daher ist die Aufrechterhaltung einer sauberen und kontrollierten Umgebung innerhalb der Ionenimplantationskammer von entscheidender Bedeutung, um das Risiko einer Kontamination zu minimieren und die Integrität des Wolframfadens sicherzustellen. Regelmäßige Reinigungs- und Wartungsverfahren können auch dazu beitragen, das Kontaminationsrisiko während der Ionenimplantation zu verringern.
Wolframdraht ist für seinen hohen Schmelzpunkt und seine hervorragenden mechanischen Eigenschaften bekannt, die ihn unter normalen Ionenimplantationsbedingungen widerstandsfähig gegen Verformung machen. Allerdings kann die beim Hochenergie-Ionenbeschuss und der Ionenimplantation erzeugte Wärme im Laufe der Zeit zu Verzerrungen führen, insbesondere wenn die Prozessparameter nicht sorgfältig kontrolliert werden.
Faktoren wie die Intensität und Dauer des Ionenstrahls sowie die Temperatur und die Belastung, denen der Wolframdraht ausgesetzt ist, können alle zur möglichen Verformung beitragen. Darüber hinaus erhöhen etwaige Verunreinigungen oder Defekte im Wolframdraht die Anfälligkeit für Verformungen.
Um das Risiko einer Verformung zu verringern, müssen die Prozessparameter sorgfältig überwacht und kontrolliert, die Reinheit und Qualität des Wolframfilaments sichergestellt und geeignete Wartungs- und Inspektionsprotokolle für die Ionenimplantationsausrüstung implementiert werden. Eine regelmäßige Beurteilung des Zustands und der Leistung von Wolframdrähten kann dabei helfen, Anzeichen von Verformungen zu erkennen und bei Bedarf Korrekturmaßnahmen zu ergreifen.
