טאַנטאַלום ספּוטערינג טאַרגאַץ זענען געניצט אין די ספּאַטער דעפּאַזישאַן פּראָצעס, אַ מעטאָד פון דיפּאַזאַץ דין פילמס פון פאַרשידן מאַטעריאַלס אויף אַ סאַבסטרייט. אין דעם פאַל פון טאַנטאַלום ספּוטערינג טאַרגאַץ, זיי זענען געניצט צו אַוועקלייגן טאַנטאַלום דין פילמס אויף אַ פאַרשיידנקייַט פון סערפאַסיז, ​​אַזאַ ווי סעמיקאַנדאַקטער ווייפערז, אַרויסווייַזן קאָוטינגז און אנדערע עלעקטראָניש קאַמפּאָונאַנץ. בעשאַס די ספּאַטער דעפּאַזישאַן פּראָצעס, די טאַנטאַלום ספּוטערינג ציל איז באָמבאַרדעד דורך הויך-ענערגיע ייאַנז, קאָזינג טאַנטאַלום אַטאָמס צו זיין עדזשעקטעד פון די ציל און דאַפּאַזיטיד אויף די סאַבסטרייט אין די פאָרעם פון אַ דין פילם. דער פּראָצעס אַלאַוז גענוי קאָנטראָל פון פילם גרעב און יונאַפאָרמאַטי, מאכן עס אַ וויכטיק אופֿן פֿאַר מאַנופאַקטורינג עלעקטראָניש דעוויסעס און אנדערע הויך-טעק פּראָדוקטן. טאַנטאַלום ספּוטערינג טאַרגאַץ זענען וואַליוד פֿאַר זייער הויך מעלטינג פונט, כעמישער ינערטנאַס און קאַמפּאַטאַבילאַטי מיט אַ פאַרשיידנקייַט פון סאַבסטרייט מאַטעריאַלס, מאכן זיי ידעאַל פֿאַר אַפּלאַקיישאַנז וואָס דאַרפן דוראַבאַל און הויך-קוואַליטעט פילמס. די טאַרגאַץ זענען קאַמאַנלי געניצט אין דער פּראָדוקציע פון ​​קאַפּאַסאַטערז, ינאַגרייטיד סערקאַץ און אנדערע עלעקטראָניש דעוויסעס.