Mục tiêu phún xạlà vật liệu được sử dụng để lắng đọng màng mỏng lên chất nền trong quá trình lắng đọng hơi vật lý (PVD). Vật liệu mục tiêu bị bắn phá bởi các ion năng lượng cao, khiến các nguyên tử bị đẩy ra khỏi bề mặt mục tiêu. Những nguyên tử được phun này sau đó được lắng đọng trên chất nền, tạo thành một màng mỏng. Mục tiêu phún xạ thường được sử dụng trong sản xuất chất bán dẫn, pin mặt trời và các thiết bị điện tử khác. Chúng thường được làm bằng kim loại, hợp kim hoặc hợp chất được lựa chọn dựa trên các đặc tính mong muốn của màng lắng đọng.

Quá trình phún xạ bị ảnh hưởng bởi một số thông số, bao gồm:

1. Công suất phún xạ: Lượng điện năng sử dụng trong quá trình phún xạ sẽ ảnh hưởng đến năng lượng của các ion bị phún xạ, từ đó ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ.

2. Áp suất khí phún xạ: Áp suất của khí phún xạ trong buồng ảnh hưởng đến sự truyền động lượng của các ion phún xạ, từ đó ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ và hiệu suất màng.

3. Thuộc tính mục tiêu: Các tính chất vật lý và hóa học của mục tiêu phún xạ, chẳng hạn như thành phần, độ cứng, điểm nóng chảy, v.v., có thể ảnh hưởng đến quá trình phún xạ và hiệu suất của màng lắng đọng.

4. Khoảng cách giữa mục tiêu và chất nền: Khoảng cách giữa mục tiêu phún xạ và chất nền sẽ ảnh hưởng đến quỹ đạo và năng lượng của các nguyên tử phún xạ, từ đó ảnh hưởng đến tốc độ lắng đọng và tính đồng nhất của màng.

5. Mật độ công suất: Mật độ công suất tác dụng lên bề mặt mục tiêu ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ và hiệu quả của quá trình phún xạ.

Bằng cách kiểm soát và tối ưu hóa các thông số này một cách cẩn thận, quá trình phún xạ có thể được điều chỉnh để đạt được các đặc tính màng và tốc độ lắng đọng mong muốn.