Nhà sản xuất và nhà cung cấp mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết cao của Trung Quốc

Mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết cao cho lớp phủ chân không

Mô tả ngắn gọn:

Mục tiêu phún xạ titan được sử dụng trong quá trình lắng đọng hơi vật lý (PVD) để lắng đọng các màng titan mỏng lên chất nền. Được làm từ titan có độ tinh khiết cao, các mục tiêu này được sử dụng trong các ứng dụng như sản xuất chất bán dẫn, lắng đọng màng mỏng của lớp phủ điện tử và quang học cũng như kỹ thuật bề mặt.

Gửi email cho chúng tôi Tải xuống dưới dạng PDF

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Vật liệu mục tiêu phún xạ là gì?

Mục tiêu phún xạ là vật liệu có độ tinh khiết cao được sử dụng trong quá trình lắng đọng hơi vật lý (PVD), đặc biệt là công nghệ phún xạ. Những vật liệu này được sử dụng để tạo thành màng mỏng trên chất nền trong nhiều ngành công nghiệp khác nhau, bao gồm sản xuất chất bán dẫn, lớp phủ quang học và lắng đọng màng mỏng cho các thiết bị điện tử.

Vật liệu mục tiêu phún xạ có thể được chế tạo từ nhiều nguyên tố và hợp chất khác nhau, bao gồm kim loại, hợp kim, oxit và nitrua. Việc lựa chọn vật liệu mục tiêu phún xạ phụ thuộc vào các đặc tính cụ thể cần thiết cho lớp phủ màng mỏng, chẳng hạn như độ dẫn điện, tính chất quang học, độ cứng và khả năng kháng hóa chất.

Các mục tiêu phún xạ phổ biến bao gồm các kim loại như titan, nhôm và đồng, cũng như các hợp chất như oxit thiếc indi (ITO) và các oxit kim loại khác nhau. Việc lựa chọn vật liệu mục tiêu phún xạ thích hợp là rất quan trọng để đạt được các đặc tính và hiệu suất mong muốn của lớp phủ màng mỏng.

Mục tiêu phún xạ có kích thước như thế nào?

Mục tiêu phún xạ có nhiều kích cỡ khác nhau tùy thuộc vào yêu cầu cụ thể của quá trình lắng đọng màng mỏng và thiết bị phún xạ. Kích thước của mục tiêu phún xạ có thể có đường kính từ vài cm đến hàng chục cm và độ dày cũng có thể khác nhau.

Kích thước của mục tiêu phún xạ được xác định bởi các yếu tố như kích thước của chất nền được phủ, cấu hình của hệ thống phún xạ, tốc độ lắng đọng và độ đồng đều mong muốn. Ngoài ra, kích thước của mục tiêu phún xạ có thể bị ảnh hưởng bởi các yêu cầu cụ thể của ứng dụng màng mỏng, chẳng hạn như diện tích được phủ và các thông số quy trình tổng thể.

Cuối cùng, kích thước của mục tiêu phún xạ được chọn để đảm bảo sự lắng đọng màng hiệu quả và đồng đều trên đế, đáp ứng nhu cầu cụ thể của quy trình phủ màng mỏng trong sản xuất chất bán dẫn, lớp phủ quang học và các ứng dụng liên quan khác.

Làm cách nào để tăng tốc độ phún xạ của tôi?

Có một số cách để tăng tốc độ phún xạ trong quá trình phún xạ:

1. Tối ưu hóa công suất và áp suất: Việc điều chỉnh các thông số công suất và áp suất trong hệ thống phún xạ có thể ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ. Việc tăng công suất và tối ưu hóa các điều kiện áp suất có thể nâng cao tốc độ phún xạ, dẫn đến sự lắng đọng màng mỏng nhanh hơn.

2. Vật liệu và hình dạng mục tiêu: Sử dụng mục tiêu phún xạ có thành phần vật liệu và hình học được tối ưu hóa có thể cải thiện tốc độ phún xạ. Mục tiêu phún xạ chất lượng cao, được thiết kế tốt có thể nâng cao hiệu quả phún xạ và dẫn đến tốc độ lắng đọng cao hơn.

3. Chuẩn bị bề mặt mục tiêu: Việc làm sạch và điều hòa đúng cách bề mặt mục tiêu phún xạ có thể góp phần làm tăng tốc độ phún xạ. Đảm bảo bề mặt mục tiêu không có chất gây ô nhiễm và oxit có thể cải thiện hiệu quả phún xạ.

4. Nhiệt độ bề mặt: Việc kiểm soát nhiệt độ bề mặt có thể ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ. Trong một số trường hợp, việc tăng nhiệt độ chất nền trong một phạm vi nhất định có thể dẫn đến tăng tốc độ phún xạ và cải thiện chất lượng màng.

5. Lưu lượng và thành phần khí: Tối ưu hóa lưu lượng và thành phần khí trong buồng phún xạ có thể ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ. Việc điều chỉnh tốc độ dòng khí và sử dụng hỗn hợp khí phún xạ thích hợp có thể nâng cao hiệu quả của quá trình phún xạ.

Bằng cách xem xét cẩn thận các yếu tố này và tối ưu hóa các tham số của quá trình phún xạ, có thể tăng tốc độ phún xạ và cải thiện hiệu quả tổng thể của quá trình lắng đọng màng mỏng trong các ứng dụng phún xạ.