Sasaran molibdenum bulatan molibdenum suhu tinggi yang digilap untuk aplikasi industri
Bahan sasaran molibdenum ialah bahan perindustrian yang digunakan terutamanya dalam bidang berteknologi tinggi seperti pembuatan semikonduktor, teknologi pemendapan filem nipis, industri fotovoltaik, dan peralatan pengimejan perubatan. Ia diperbuat daripada molibdenum ketulenan tinggi, dengan takat lebur yang tinggi, kekonduksian elektrik dan haba yang baik, yang membolehkan sasaran molibdenum kekal stabil dalam persekitaran suhu tinggi atau tekanan tinggi. Ketulenan bahan sasaran molibdenum biasanya 99.9% atau 99.99%, dan spesifikasi termasuk sasaran bulat, sasaran plat dan sasaran berputar.
| Dimensi | Sebagai keperluan anda |
| Tempat Asal | Henan, Luoyang |
| Nama Jenama | FGD |
| Permohonan | Perubatan, Industri, semikonduktor |
| bentuk | Bulat |
| Permukaan | Digilap |
| Kesucian | 99.95% Min |
| bahan | Tulen Mo |
| Ketumpatan | 10.2g/cm3 |
| Komponen utama | Mo＞99.95% |
| Kandungan kekotoran≤ | |
| Pb | 0.0005 |
| Fe | 0.0020 |
| S | 0.0050 |
| P | 0.0005 |
| C | 0.01 |
| Cr | 0.0010 |
| Al | 0.0015 |
| Cu | 0.0015 |
| K | 0.0080 |
| N | 0.003 |
| Sn | 0.0015 |
| Si | 0.0020 |
| Ca | 0.0015 |
| Na | 0.0020 |
| O | 0.008 |
| Ti | 0.0010 |
| Mg | 0.0010 |
| bahan | Suhu Ujian(℃) | Ketebalan Plat (mm) | Rawatan haba pra eksperimen |
| Mo | 1100 | 1.5 | 1200℃/1j |
|
| 1450 | 2.0 | 1500℃/1j |
|
| 1800 | 6.0 | 1800℃/1j |
| TZM | 1100 | 1.5 | 1200℃/1j |
|
| 1450 | 1.5 | 1500℃/1j |
|
| 1800 | 3.5 | 1800℃/1j |
| MLR | 1100 | 1.5 | 1700℃/3j |
|
| 1450 | 1.0 | 1700℃/3j |
|
| 1800 | 1.0 | 1700℃/3j |
1. Kilang kami terletak di Bandar Luoyang, Wilayah Henan. Luoyang adalah kawasan pengeluaran untuk lombong tungsten dan molibdenum, jadi kami mempunyai kelebihan mutlak dalam kualiti dan harga;
2. Syarikat kami mempunyai kakitangan teknikal dengan lebih 15 tahun pengalaman, dan kami menyediakan penyelesaian dan cadangan yang disasarkan untuk setiap keperluan pelanggan.
3. Semua produk kami menjalani pemeriksaan kualiti yang ketat sebelum dieksport.
4. Jika anda menerima barangan yang rosak, anda boleh menghubungi kami untuk bayaran balik.
1. Oksida
(molibdenum sesquioxide)
2. Pengurangan
(Kaedah pengurangan kimia untuk mengurangkan serbuk molibdenum)
3. Mencampur dan menapis aloi
(Salah satu kecekapan teras kami)
4. Menekan
(Mencampur dan menekan serbuk logam)
5. Sinter
(Zarah serbuk dipanaskan dalam persekitaran gas pelindung untuk menghasilkan blok tersinter keliangan rendah)
6. Ambil bentuk
(Ketumpatan dan kekuatan mekanikal bahan meningkat dengan tahap pembentukan)
7. Rawatan haba
(Melalui rawatan haba, adalah mungkin untuk mengimbangi tekanan mekanikal, menjejaskan sifat bahan, dan memastikan logam mudah diproses pada masa hadapan)
8. Pemesinan
(Barisan pengeluaran pemesinan profesional memastikan kadar kelayakan pelbagai produk)
9. Jaminan kualiti
(Mengguna pakai sistem pengurusan kualiti, keselamatan dan alam sekitar untuk memastikan dan terus mengoptimumkan kualiti produk dan perkhidmatan)
10. Kitar semula
(Rawatan kimia, haba dan mekanikal terhadap lebihan bahan berkaitan pengeluaran dan produk sekerap kitar semula boleh membantu melindungi sumber semula jadi)
Sasaran molibdenum biasanya digunakan dalam tiub sinar-X untuk pengimejan perubatan, pemeriksaan industri dan penyelidikan saintifik. Aplikasi untuk sasaran molibdenum adalah terutamanya dalam menghasilkan sinar-X bertenaga tinggi untuk pengimejan diagnostik, seperti imbasan tomografi berkomputer (CT) dan radiografi.
Sasaran molibdenum diutamakan kerana takat leburnya yang tinggi, yang membolehkan mereka menahan suhu tinggi yang dijana semasa pengeluaran sinar-X. Mereka juga mempunyai kekonduksian terma yang baik, membantu menghilangkan haba dan memanjangkan hayat tiub sinar-X.
Selain pengimejan perubatan, sasaran molibdenum digunakan untuk ujian tidak merosakkan dalam aplikasi industri, seperti memeriksa kimpalan, paip dan komponen aeroangkasa. Ia juga digunakan dalam kemudahan penyelidikan yang menggunakan spektroskopi pendarfluor sinar-X (XRF) untuk analisis bahan dan pengenalan unsur.
Molibdenum sering digunakan sebagai bahan sasaran dalam mamografi kerana sifatnya yang baik untuk pengimejan tisu payudara. Molibdenum mempunyai nombor atom yang agak rendah, yang bermaksud sinar-X yang dihasilkannya sesuai untuk pengimejan tisu lembut seperti payudara. Molibdenum menghasilkan ciri-ciri sinar-X pada tahap tenaga yang lebih rendah, menjadikannya sesuai untuk memerhati perbezaan halus dalam ketumpatan tisu payudara.
Di samping itu, molibdenum mempunyai sifat kekonduksian terma yang baik, yang penting dalam peralatan mamografi di mana pendedahan sinar-X berulang adalah perkara biasa. Keupayaan untuk menghilangkan haba dengan berkesan membantu mengekalkan kestabilan dan prestasi tiub sinar-X dalam tempoh penggunaan yang lama.
Secara keseluruhannya, penggunaan molibdenum sebagai bahan sasaran dalam mamografi membantu mengoptimumkan kualiti pengimejan payudara dengan menyediakan sifat sinar-X yang sesuai untuk aplikasi khusus ini.
Sasaran sputter ialah bahan yang digunakan dalam proses pemendapan wap fizikal (PVD) untuk membentuk filem nipis atau salutan pada substrat. Semasa proses sputtering, pancaran ion bertenaga tinggi mengebom sasaran sputtering, menyebabkan atom atau molekul dikeluarkan daripada bahan sasaran. Zarah-zarah yang disembur ini kemudian didepositkan ke substrat untuk membentuk filem nipis dengan komposisi yang sama seperti sasaran sputtering.
Sasaran sputtering dibuat daripada pelbagai bahan, termasuk logam, aloi, oksida dan sebatian lain, bergantung pada sifat yang dikehendaki bagi filem termendap. Pilihan bahan sasaran sputtering boleh menjejaskan sifat filem yang terhasil, seperti kekonduksian elektrik, sifat optik atau sifat magnetnya.
Sasaran sputtering digunakan secara meluas dalam pelbagai industri seperti pembuatan semikonduktor, salutan optik, dan sel suria filem nipis. Kawalan tepat sasaran sputtering ke atas pemendapan filem nipis menjadikannya kritikal dalam pengeluaran peranti elektronik dan optik termaju.
Terdapat beberapa pertimbangan yang terlibat dalam memilih dan menggunakan sasaran molibdenum untuk prestasi optimum:
1. Ketulenan dan komposisi: Bahan sasaran molibdenum ketulenan tinggi dipilih untuk memastikan prestasi sputtering yang konsisten dan boleh dipercayai. Komposisi sasaran molibdenum hendaklah disesuaikan dengan keperluan pemendapan filem tertentu, seperti sifat filem yang dikehendaki dan ciri lekatan.
2. Struktur butiran: Beri perhatian kepada struktur butiran sasaran molibdenum kerana ia akan menjejaskan proses sputtering dan kualiti filem yang didepositkan. Sasaran molibdenum berbutir halus meningkatkan keseragaman sputtering dan prestasi filem.
3. Geometri dan saiz sasaran: Pilih geometri dan saiz sasaran yang sesuai untuk dipadankan dengan sistem sputtering dan keperluan proses. Reka bentuk sasaran harus memastikan sputtering yang cekap dan pemendapan filem seragam pada substrat.
4. Penyejukan dan pelesapan haba: Mekanisme penyejukan dan pelesapan haba yang sesuai hendaklah digunakan untuk menguruskan kesan haba semasa proses percikan. Ini amat penting untuk sasaran molibdenum, kerana ia mudah terdedah kepada masalah berkaitan haba.
5. Parameter sputtering: Optimumkan parameter sputtering seperti kuasa, tekanan dan aliran gas untuk mencapai sifat filem dan kadar pemendapan yang diingini sambil meminimumkan hakisan sasaran dan memastikan prestasi sasaran jangka panjang.
6. Penyelenggaraan dan Pengendalian: Ikuti prosedur pengendalian, pemasangan dan penyelenggaraan sasaran molibdenum yang disyorkan untuk memanjangkan hayat perkhidmatannya dan mengekalkan prestasi sputtering yang konsisten.
Dengan mempertimbangkan faktor-faktor ini dan melaksanakan amalan terbaik apabila memilih dan menggunakan sasaran molibdenum, prestasi sputtering yang optimum boleh dicapai, menghasilkan pemendapan filem nipis berkualiti tinggi untuk pelbagai aplikasi.
