99,95% Pure Tantal Sputtering Zil
Tantal Sputtering Ziler ginn normalerweis mat Pulvermetallurgieprozesser produzéiert.
An dëser Method gëtt Tantalpulver kompaktéiert a gesintert fir eng zolidd Tantalplack ze bilden. Déi gesintert Blieder ginn dann duerch verschidde Formungsprozesser veraarbecht, wéi Bearbechtung oder Walzen, fir déi gewënscht Dimensiounen an Uewerflächefinanz ze kréien. D'Finale Produkt gëtt dann gebotzt an iwwerpréift fir sécherzestellen datt et de Spezifikatioune fir d'Sputterapplikatioun entsprécht. Dës Produktiounsmethod garantéiert datt d'Tantal Sputterziler déi néideg Rengheet, Dicht a Mikrostruktur hunn fir optimal Leeschtung an dënnem Filmdepositiounsprozesser z'erreechen.
Tantal Sputterziler ginn am Sputterdepositiounsprozess benotzt, eng Method fir dënn Filmer vu verschiddene Materialien op e Substrat ze deposéieren. Am Fall vun Tantal Sputtering Ziler gi se benotzt fir Tantal dënn Filmer op verschidde Flächen ze deposéieren, sou wéi Hallefleitwaferen, Displaybeschichtungen an aner elektronesch Komponenten. Wärend dem Sputterdepositiounsprozess gëtt d'Tantal-Sputterzil vun héich-Energie-Ionen bombardéiert, wouduerch Tantalatome vum Zil erausgehäit ginn an op de Substrat a Form vun engem dënnen Film deposéiert ginn. De Prozess erlaabt präzis Kontroll vun der Filmdicke an der Uniformitéit, sou datt et eng wichteg Method ass fir elektronesch Geräter an aner High-Tech Produkter ze fabrizéieren. Tantal Sputterziler gi geschätzt fir hiren héije Schmelzpunkt, chemescher Inertheet a Kompatibilitéit mat verschiddene Substratmaterialien, wat se ideal mécht fir Uwendungen déi haltbar a qualitativ héichwäerteg Filmer erfuerderen. Dës Ziler ginn allgemeng an der Produktioun vu Kondensatoren, integréierte Circuiten an aner elektronesch Geräter benotzt.
Wechat: 15138768150
WhatsApp: +86 15236256690
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
