מקרטטים מטרותהם חומרים המשמשים להנחת סרטים דקים על מצעים במהלך תהליך שקיעת אדים פיזית (PVD). חומר המטרה מופגז ביונים עתירי אנרגיה, מה שגורם לאטומים להיפלט משטח המטרה. אטומים מרוססים אלה מופקדים לאחר מכן על מצע ויוצרים סרט דק. מטרות קיצוץ משמשות בדרך כלל בייצור של מוליכים למחצה, תאים סולאריים והתקנים אלקטרוניים אחרים. הם עשויים בדרך כלל ממתכות, סגסוגות או תרכובות שנבחרות על סמך התכונות הרצויות של הסרט המופקד.

תהליך הקפיצה מושפע ממספר פרמטרים, כולל:

1. כוח הקריז: כמות הכוח המופעלת במהלך תהליך הקפיצה תשפיע על האנרגיה של היונים המקרזים, ובכך תשפיע על קצב הקיזוז.

2. לחץ גז מקרטעת: הלחץ של הגז המקרטע בתא משפיע על העברת המומנטום של יונים מקרזים, ובכך משפיע על קצב הקפיצה וביצועי הסרט.

3. תכונות מטרה: התכונות הפיזיקליות והכימיות של מטרת הקפיצה, כגון הרכבה, קשיותו, נקודת ההיתוך וכו', יכולות להשפיע על תהליך הקפיצה וביצועי הסרט המופקד.

4. המרחק בין המטרה למצע: המרחק בין המטרה המקרטעת למצע ישפיע על המסלול והאנרגיה של האטומים המקרטעים, ובכך ישפיע על קצב השקיעה ואחידות הסרט.

5. צפיפות הספק: צפיפות ההספק המופעלת על משטח המטרה משפיעה על קצב הקפיצה ויעילות תהליך הקפיצה.

על ידי שליטה קפדנית ואופטימיזציה של פרמטרים אלה, ניתן להתאים את תהליך הקפיצה להשגת מאפייני הסרט וקצבי השקיעה הרצויים.