99,95% tiszta tantál porlasztó célpont
A tantál porlasztó céltárgyakat általában porkohászati eljárásokkal állítják elő.
Ennél a módszernél a tantálport tömörítik és szinterelik, hogy szilárd tantállemezt kapjanak. A szinterezett lemezeket ezután különféle alakítási folyamatokon, például megmunkáláson vagy hengereléssel dolgozzák fel a kívánt méretek és felületminőség elérése érdekében. A végterméket ezután megtisztítják és ellenőrzik, hogy megbizonyosodjon arról, hogy megfelel a porlasztási alkalmazáshoz szükséges előírásoknak. Ez a gyártási módszer biztosítja, hogy a tantál porlasztási célpontok a szükséges tisztasággal, sűrűséggel és mikroszerkezettel rendelkezzenek ahhoz, hogy optimális teljesítményt érjenek el a vékonyréteg-leválasztási folyamatokban.
A tantál porlasztó célpontokat a porlasztásos leválasztási folyamatban használják, amely eljárás különféle anyagok vékony filmjeinek hordozóra történő felhordására. Tantál porlasztó céltárgyak esetében tantál vékonyrétegek felhordására szolgálnak különféle felületekre, például félvezető lapkákra, kijelzőbevonatokra és egyéb elektronikus alkatrészekre. A porlasztásos leválasztási folyamat során a tantál porlasztó célpontot nagy energiájú ionok bombázzák, aminek következtében a tantál atomok kilökődnek a céltárgyból, és vékony film formájában lerakódnak a hordozóra. Az eljárás lehetővé teszi a filmvastagság és az egyenletesség pontos szabályozását, így fontos módszer az elektronikai eszközök és más high-tech termékek gyártásához. A tantál porlasztó céltárgyakat magas olvadáspontjuk, kémiai tehetetlenségük és különféle hordozóanyagokkal való kompatibilitásuk miatt értékelik, így ideálisak a tartós és jó minőségű filmeket igénylő alkalmazásokhoz. Ezeket a célokat általában kondenzátorok, integrált áramkörök és egyéb elektronikus eszközök gyártásánál használják.
Wechat: 15138768150
WhatsApp: +86 15236256690
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
