Tungstenevaporation coils

Maʻemaʻe: W ≥ 99.95%

Nā kūlana o ka ʻili: hoʻomaʻemaʻe ʻia a i ʻole electrolytic polishing.

Ka helu hehee: 3420 ± 20 ℃

Nui: e like me ke kaha kiʻi i hāʻawi ʻia.

ʻAno: Pololei, ʻano U, ʻano V, Basket.Helical.

Hoʻohana: Hoʻohana nui ʻia nā mea wela tungsten no nā mea hoʻomehana e like me ke kiʻi kiʻi, aniani, plastic, substrate metala, ABS, PP a me nā mea plastik ʻē aʻe ma ka ʻili o nā mea hoʻonaninani. Hoʻohana nui ʻia ka uea Tungsten ma ke ʻano he mea maka no ka mea wela.

kumukānāwai hana: He wahi heheʻe kiʻekiʻe ka Tungsten, ke kū'ē uila kiʻekiʻe, ikaika maikaʻi a me ke kaomi mahu haʻahaʻa, kūpono ia no ka hoʻohana ʻana i ka mea wela. Hoʻokomo ʻia ka membrane i loko o kahi mea hoʻomehana i loko o kahi keʻena maʻemaʻe, a hoʻomehana ʻia ma lalo o kahi kūlana kiʻekiʻe e ka mea wela (tungsten heater) e evaporate. Ke ʻoi aku ka nui o ke ala kūʻokoʻa o nā molekole mahu ma mua o ka nui o ka laina o ke keʻena vacuum, nā ʻātoma o ka mahu. hiki ke hele pololei i ka ʻili o ka substrate e uhi ʻia. Ma muli o ka haʻahaʻa haʻahaʻa o ka substrate, hoʻokumu ʻia ke kiʻiʻoniʻoni e ka condensation.

ʻO ka hoʻoheheʻe ʻana i ka wela (resistance evaporation) kahi ʻano uhi i hoʻohana ʻia ma ke ʻano o ke kaʻina PVD (Physical Vapor Deposition). ʻO ka mea e hoʻokumu i ka papa hope e hoʻomehana ʻia i loko o kahi keʻena maloʻo a hiki i ka evaporates. ʻO ka mahu i hana ʻia e ka mea condenses ma luna o ka substrate a hana i ka papa i makemake ʻia.

ʻIke ʻia kā mākou ʻōwili evaporation pehea e hoʻohuli ai i ka wela: ʻO kēia mau mea hoʻoheheʻe kū'ē me ko lākou mau wahi heheʻe kiʻekiʻe loa e lawe mai i kekahi metala i ka paila. I ka manawa like, ʻo kā lākou kūpaʻa corrosion kiʻekiʻe a me ka hoʻomaʻemaʻe waiwai koʻikoʻi e pale i ka hoʻohaumia ʻana o ka substrate.