China 99,5% obxectivo redondo de titanio obxectivo de titanio para fabricante e provedor de PVD |Tungsteno forxado

Obxectivo redondo de titanio 99,5% para PVD

Obxectivo redondo de titanio ao 99,5 % para Imaxe destacada PVD

Descrición curta:

A alta pureza do obxectivo de titanio do 99,5% garante a calidade e consistencia das películas de titanio depositadas.Estes obxectivos están deseñados para proporcionar unha deposición uniforme e controlada, axudando a producir revestimentos de alta calidade coas propiedades desexadas, como a resistencia á corrosión, a adhesión e o acabado superficial.

Envíanos un correo electrónico Descarga como PDF

Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Que é o titanio de tratamento PVD?

O proceso PVD, ou proceso físico de deposición de vapor, do titanio implica depositar unha fina película de titanio ou un composto a base de titanio sobre un substrato mediante un proceso de baleiro.Este tratamento úsase para mellorar as propiedades da superficie do substrato, proporcionando beneficios como unha mellora da resistencia ao desgaste, unha maior dureza, unha maior resistencia á corrosión e un acabado decorativo.

No caso do titanio, o procesamento de PVD pode implicar a deposición de revestimentos a base de titanio como nitruro de titanio (TiN), carburo de titanio (TiC), nitruro de aluminio titanio (TiAlN), etc., sobre substratos de titanio ou outros materiais.Estes revestimentos pódense aplicar a unha variedade de produtos, incluíndo ferramentas de corte, implantes médicos, compoñentes aeroespaciais e elementos decorativos.

O procesamento PVD do titanio ten lugar nunha cámara de baleiro especializada, onde o material de revestimento se evapora e despois se deposita sobre o substrato de forma controlada.O proceso permite un control preciso do espesor, composición e estrutura do revestimento depositado, obtendo propiedades de superficie personalizadas para satisfacer os requisitos específicos de aplicación.

Que material se utiliza para PVD?

Os materiais utilizados para a deposición física de vapor (PVD) poden variar dependendo da aplicación específica e das propiedades de revestimento desexadas.Os materiais de uso común para PVD inclúen metais como titanio, cromo, aluminio e as súas aliaxes, así como cerámicas e outros compostos.

Algúns dos materiais máis utilizados para o revestimento PVD inclúen:

1. Titanio e aliaxes de titanio: úsanse en aplicacións que requiren resistencia á corrosión, resistencia ao desgaste e biocompatibilidade.

2. Cromo e nitruro de cromo: coñecidos por proporcionar unha excelente dureza, resistencia ao desgaste e acabados decorativos.

3. Aluminio e aliaxes de aluminio: utilízanse para formar revestimentos protectores e decorativos con boa adhesión e resistencia á corrosión.

4. Nitruro de circonio e nitruro de titanio: coñecidos pola súa dureza, resistencia ao desgaste e acabado dourado decorativo.

5. Nitruro de silicio e carburo de silicio: utilízase en situacións que requiren resistencia a altas temperaturas, resistencia ao desgaste e baixa fricción.

Estes materiais son depositados sobre substratos mediante o proceso PVD para mellorar as súas propiedades de superficie, proporcionando beneficios como unha maior dureza, resistencia ao desgaste, resistencia á corrosión e estética.