Spriocanna sputteris ábhair iad a úsáidtear chun scannáin thanaí a chur ar fhoshraitheanna le linn an phróisis sil-leagan fisiceach gaile (PVD). Déantar an t-ábhar sprice a bhogadh le hiain ardfhuinnimh, rud a fhágann go ndéantar adaimh a dhíbirt ón spriocdhromchla. Ansin déantar na hadaimh spraeáilte seo a thaisceadh ar fhoshraith, rud a chruthaíonn scannán tanaí. Úsáidtear spriocanna sputtering go coitianta i dtáirgeadh leathsheoltóirí, cealla gréine agus gléasanna leictreonacha eile. De ghnáth déantar iad de mhiotail, cóimhiotail nó comhdhúile a roghnaítear bunaithe ar airíonna inmhianaithe an scannáin thaisce.

Bíonn tionchar ag roinnt paraiméadair ar an bpróiseas sputtering, lena n-áirítear:

1. Cumhacht sputtering: Cuirfidh an méid cumhachta a chuirtear i bhfeidhm le linn an phróisis sputtering isteach ar fhuinneamh na n-ian sputtered, rud a dhéanfaidh difear don ráta sputtering.

2. Brú sputtering gáis: Bíonn tionchar ag brú an gháis sputtering sa seomra ar aistriú móiminteam na n-ian sputtered, rud a chuireann isteach ar an ráta sputtering agus ar fheidhmíocht scannáin.

3. Airíonna sprioc: Is féidir le hairíonna fisiceacha agus ceimiceacha an sprioc sputtering, mar shampla a chomhdhéanamh, a chruas, a leáphointe, etc., difear a dhéanamh ar an bpróiseas sputtering agus ar fheidhmíocht an scannáin thaisce.

4. An fad idir an sprioc agus an tsubstráit: Cuirfidh an fad idir an sprioc sputtering agus an tsubstráit isteach ar thrajectory agus ar fhuinneamh na n-adamh sputtered, rud a dhéanfaidh difear do ráta taisce agus aonfhoirmeacht an scannáin.

5. Dlús cumhachta: Bíonn tionchar ag an dlús cumhachta a chuirtear i bhfeidhm ar an spriocdhromchla ar an ráta sputtering agus ar éifeachtacht an phróisis sputtering.

Trí na paraiméadair seo a rialú agus a bharrfheabhsú go cúramach, is féidir an próiseas sputtering a shaincheapadh chun airíonna scannáin agus rátaí sil-leagan inmhianaithe a bhaint amach.