Sprioc sputtering tíotáiniam ard-íonachta le haghaidh sciath bhfolús
Is éard atá i spriocanna sputter ná ábhair ardíonachta a úsáidtear i bpróisis sil-leagan fisiceach gaile (PVD), go háirithe teicneolaíocht sputtering.Úsáidtear na hábhair seo chun scannáin tanaí a fhoirmiú ar fhoshraitheanna i dtionscail éagsúla, lena n-áirítear déantúsaíocht leathsheoltóra, bratuithe optúla, agus taisceadh scannán tanaí le haghaidh feistí leictreonacha.
Is féidir spriocábhair sputter a dhéanamh as éagsúlacht eilimintí agus comhdhúile, lena n-áirítear miotail, cóimhiotail, ocsaídí agus nítrídí.Braitheann an rogha ábhar sputter sputter ar na hairíonna sonracha atá ag teastáil le haghaidh an sciath scannán tanaí, mar shampla seoltacht leictreach, airíonna optúla, cruas agus friotaíocht ceimiceach.
I measc na spriocanna sputtering coitianta tá miotail cosúil le tíotáiniam, alúmanam agus copar, chomh maith le comhdhúile mar ocsaíd stáin indium (ITO) agus ocsaídí miotail éagsúla.Tá sé ríthábhachtach an spriocábhar sputtering cuí a roghnú chun na tréithe inmhianaithe agus feidhmíocht bratuithe scannáin thanaí a bhaint amach.
Tagann spriocanna sputtering i méideanna éagsúla ag brath ar riachtanais shonracha an phróisis sil-leagan scannáin tanaí agus trealamh sputtering.Is féidir le méid an sputtering sputtering raon ó chúpla ceintiméadar go deich ceintiméadar ar trastomhas, agus is féidir leis an tiús a athrú freisin.
Déantar méid an sprioc sputtering a chinneadh ag fachtóirí cosúil le méid an tsubstráit atá le brataithe, cumraíocht an chórais sputtering, agus an ráta taisce agus aonfhoirmeacht atá ag teastáil.Ina theannta sin, féadfaidh ceanglais shonracha an iarratais scannáin tanaí difear a dhéanamh ar mhéid an sputtering, mar shampla an limistéar atá le brataithe agus paraiméadair an phróisis fhoriomlána.
I ndeireadh na dála, roghnaítear méid an sputter sputter chun taisceadh éifeachtach agus aonfhoirmeach an scannáin ar an tsubstráit a chinntiú, ag freastal ar riachtanais shonracha an phróisis sciath scannáin tanaí i ndéantúsaíocht leathsheoltóra, bratuithe optúla agus iarratais ghaolmhara eile.
Tá roinnt bealaí ann chun an ráta sputtering a mhéadú i bpróiseas sputtering:
1. Cumhacht agus Optamú Brú: Is féidir le coigeartú na paraiméadair cumhachta agus brú sa chóras sputtering tionchar a imirt ar an ráta sputtering.Is féidir feabhas a chur ar an ráta sputtering trí chumhacht a mhéadú agus na coinníollacha brú a bharrfheabhsú, rud a fhágann go gcuirfear an scannán tanaí i dtaisce níos tapúla.
2. Ábhar Sprioc agus Céimseata: Is féidir le húsáid spriocanna sputtering le comhdhéanamh ábhar optamaithe agus céimseata an ráta sputtering a fheabhsú.Is féidir le spriocanna sputtering ardchaighdeáin dea-dheartha feabhas a chur ar éifeachtúlacht sputtering agus rátaí taisce níos airde a bheith mar thoradh orthu.
3. Ullmhú Dromchla Sprioc: Is féidir le glanadh agus aerchóiriú ceart an spriocdhromchla sputtering cur le rátaí sputtering méadaithe.Má chinntítear go bhfuil an spriocdhromchla saor ó éillithe agus d’ocsaídí is féidir an éifeachtúlacht sputtering a fheabhsú.
4. Teocht an tsubstráit: Is féidir le rialú teocht an tsubstráit tionchar a imirt ar an ráta sputtering.I gcásanna áirithe, d'fhéadfadh ardú ar rátaí sputtering agus cáilíocht scannán feabhsaithe a bheith mar thoradh ar ardú teocht an tsubstráit laistigh de raon áirithe.
5. Sreabhadh agus Comhdhéanamh Gáis: Is féidir leis an ráta sputtering difear a dhéanamh ar shreabhadh agus ar chomhdhéanamh an gháis sa seomra sputtering.Is féidir feabhas a chur ar éifeachtúlacht an phróisis sputtering trí na rátaí sreafa gáis a choigeartú agus na meascáin gháis sputtering cuí a úsáid.
Trí na fachtóirí seo a mheas go cúramach agus paraiméadair an phróisis sputtering a bharrfheabhsú, is féidir an ráta sputtering a mhéadú agus éifeachtúlacht iomlán taisce scannáin tanaí a fheabhsú in iarratais sputtering.
comhrá: 15138768150
WhatsApp: +86 15838517324
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
