Tantalaj ŝprucceloj estas uzitaj en la ŝprucdemetprocezo, metodo de deponado de maldikaj filmoj de diversaj materialoj sur substrato. Koncerne tantalajn ŝpruccelojn, ili kutimas deponi tantalaj maldikaj filmoj sur diversaj surfacoj, kiel semikonduktaĵaj oblatoj, ekranaj tegaĵoj kaj aliaj elektronikaj komponentoj. Dum la ŝprucdemetprocezo, la tantala ŝpruccelo estas bombadita per alt-energiaj jonoj, igante tantalumatomojn esti elĵetitaj de la celo kaj deponitaj sur la substrato en la formo de maldika filmo. La procezo permesas precizan kontrolon de filmo dikeco kaj unuformeco, igante ĝin grava metodo por fabrikado de elektronikaj aparatoj kaj aliaj altteknologiaj produktoj. Tantalaj ŝprucceloj estas aprezitaj pro sia alta frostopunkto, kemia inerteco kaj kongruo kun diversaj substrataj materialoj, igante ilin idealaj por aplikoj postulantaj daŭrajn kaj altkvalitajn filmojn. Ĉi tiuj celoj estas ofte uzataj en la produktado de kondensiloj, integraj cirkvitoj kaj aliaj elektronikaj aparatoj.