Volframovaporiĝaj bobenoj

Pureco: W ≥ 99.95%

Kondiĉoj de surfaco: Kemia purigita aŭ elektroliza polurado.

Fandpunkto: 3420 ± 20 ℃

Grandeco: laŭ la desegno provizita.

Tipo: Rekta, U-formo, V-formo, Korbo.Helikforma.

Apliko: Hejtiloj de tungsteno estas ĉefe uzataj por hejti elementojn kiel bilda tubo, spegulo, plasto, metala substrato, ABS, PP kaj aliaj plastaj materialoj sur la surfaco de diversaj ornamaj objektoj. Volframa drato estas ĉefe uzata kiel krudaĵo por la hejtilo.

funkcia principo: Tungsteno havas altan frostopunkton, altan elektran rezistecon, bonan forton kaj malaltan vaporpremon, igante ĝin taŭga por uzo kiel hejtilo. La membrano estas metita en hejtilon en vakuoĉambron, kaj varmigita sub alta vakuokondiĉo per hejtilo (volframa hejtilo) por vaporiĝi. Kiam la averaĝa libera vojo de la vapormolekuloj estas pli granda ol la lineara grandeco de la vakua ĉambro, la atomoj de la vaporo Post kiam la molekuloj eskapas de la surfaco de la vaporiĝfonto, ili malofte estas trafitaj aŭ malhelpitaj de aliaj molekuloj aŭ atomoj, kaj povas rekte atingi la surfacon de la tegota substrato. Pro la pli malalta temperaturo de la substrato, la filmo estas formita per kondensado.

Termika vaporiĝo (rezista vaporiĝo) estas tega metodo uzata kiel parto de la PVD-procezo (Fizika Vapora Deponaĵo). La materialo kiu devas formi la postan tavolon estas varmigita en vakua ĉambro ĝis ĝi vaporiĝas. La vaporo formita de la materialo kondensiĝas sur la substrato kaj formas la postulatan tavolon.

Niaj vaporiĝaj bobenoj scias kiel altigi la varmegon: Ĉi tiuj rezistaj hejtiloj kun siaj tre altaj fandpunktoj alportos preskaŭ ajnan metalon al bolado. Samtempe, ilia alta koroda rezisto kaj elstara materiala pureco malhelpas ajnan poluadon de la substrato.