Tungstenevaporation coils

Kaputli: W ≥ 99.95%

Kondisyon sa nawong : Gilimpyohan sa kemikal o electrolytic polishing.

Matunaw nga punto: 3420 ± 20 ℃

Gidak-on: sumala sa gihatag nga drowing.

Type: Tul-id, U porma, V porma, Basket.Helical.

Aplikasyon:Tungsten wire heater kay nag-una nga gigamit alang sa pagpainit elemento sama sa hulagway tube, salamin, plastik, metal substrate, ABS, PP ug uban pang mga plastik nga mga materyales sa ibabaw sa mga nagkalain-laing pangdekorasyon nga mga butang. Tungsten wire kay nag-una nga gigamit ingon nga usa ka hilaw nga materyal alang sa heater.

prinsipyo sa pagtrabaho: Ang Tungsten adunay taas nga punto sa pagkatunaw, taas nga resistensya sa elektrisidad, maayo nga kusog ug ubos nga presyur sa alisngaw, nga naghimo niini nga angay alang sa paggamit ingon usa ka heater. Ang lamad gibutang sa usa ka heater sa usa ka vacuum chamber, ug gipainit ubos sa taas nga vacuum nga kondisyon sa usa ka heater (tungsten heater) aron moalisngaw. Kung ang gipasabot nga libre nga agianan sa mga molekula sa alisngaw mas dako pa kay sa linear nga gidak-on sa vacuum chamber, ang mga atomo sa alisngaw Human ang mga molekula makalingkawas gikan sa nawong sa tinubdan sa evaporation, sila panagsa ra maapektuhan o mapugngan sa ubang mga molekula o atomo, ug mahimong direkta nga makaabot sa ibabaw sa substrate nga plated. Tungod sa ubos nga temperatura sa substrate, ang pelikula naporma pinaagi sa condensation.

Thermal evaporation (resistance evaporation) kay usa ka coating method nga gigamit isip kabahin sa PVD process (Physical Vapor Deposition). Ang materyal nga mao ang pagporma sa sunod nga layer gipainit sa usa ka vacuum chamber hangtud nga kini moalisngaw. Ang alisngaw nga naporma sa materyal nag-condense sa substrate ug nagporma sa gikinahanglan nga layer.

Ang among mga evaporation coil nahibal-an kung unsaon pagpausbaw ang kainit: Kini nga mga resistensya nga mga heaters nga adunay taas kaayo nga mga punto sa pagkatunaw magdala sa halos bisan unsang metal sa pagpabukal. Sa parehas nga oras, ang ilang taas nga resistensya sa kaagnasan ug talagsaon nga kaputli sa materyal makapugong sa bisan unsang kontaminasyon sa substrate.