די כעמישער פארע דעפּאַזישאַן (CVD) אופֿן פון דימענט ינוואַלווז ניצן אַ כעמישער פּראָצעס צו סינטאַסייז אַ דימענט פילם אָדער קאָוטינג אין אַ קאַנטראָולד סוויווע. אין דעם אופֿן, אַ גאַז געמיש, טיפּיקלי מיט כיידראָוקאַרבאַן גאַסאַז אַזאַ ווי מעטיין, איז באַקענענ אין אַ אָפּרוף קאַמער צוזאַמען מיט אַ סאַבסטרייט מאַטעריאַל אַזאַ ווי מאָליבדענום ווייפערז אָדער דימענט ווייפערז. דער גאַז איז דאַן אַקטיווייטיד דורך פאַרשידן מיטלען, אַזאַ ווי היץ אָדער פּלאַזמע, צו ברעכן אַראָפּ כיידראָוקאַרבאַן מאַלאַקיולז און אַוועקלייגן טשאַד אַטאָמס אויף די סאַבסטרייט, ריזאַלטינג אין די וווּקס פון דימענט קריסטאַלז.

די CVD פּראָצעס פון דימענט אָפפערס עטלעכע אַדוואַנטידזשיז, אַרייַנגערעכנט די פיייקייט צו פּראָדוצירן הויך-קוואַליטעט דימענט קאָוטינגז מיט גענוי קאָנטראָל פון גרעב, יונאַפאָרמאַטי און זאַץ. עס אויך אַלאַוז די דעפּאַזישאַן פון דימענט פילמס אויף אַ פאַרשיידנקייַט פון סאַבסטרייט מאַטעריאַלס, וואָס אַלאַוז די שאַפונג פון דימענט-קאָוטאַד פּאַרץ פֿאַר פאַרשידן ינדאַסטריאַל און פאָרשונג אַפּלאַקיישאַנז.

קוילעלדיק, די CVD אופֿן פון דימענט איז אַ ווערסאַטאַל און וויידלי געוויינט טעכניק פֿאַר פּראָדוצירן סינטעטיש דימענט פילמס און קאָוטינגז מיט קאַסטאַמייזד פּראָפּערטיעס, וואָס מאכט זיי ווערטפול אין ינדאַסטריז אַזאַ ווי עלעקטראָניק, קאַטינג מכשירים און טראָגן-קעגנשטעליק קאָוטינגז.