Đĩa vonfram mục tiêu 99,95% nguyên chất của Trung Quốc dành cho nhà sản xuất và nhà cung cấp ngành công nghiệp |Vonfram rèn

đĩa vonfram mục tiêu 99,95% tinh khiết cho ngành công nghiệp

đĩa vonfram mục tiêu vonfram 99,95% nguyên chất cho ngành công nghiệp

Mô tả ngắn:

Mục tiêu vonfram và đĩa vonfram thường được sử dụng trong nhiều ứng dụng công nghiệp, đặc biệt là trong quá trình phủ và lắng đọng màng mỏng.Vonfram được biết đến với điểm nóng chảy cao, tính dẫn nhiệt và khả năng chống ăn mòn tuyệt vời, khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng cho các ứng dụng như vậy.

Gửi email cho chúng tôi Tải xuống dưới dạng PDF

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Mục tiêu vonfram là gì?

Mục tiêu vonfram là vật liệu chuyên dụng được sử dụng trong quá trình lắng đọng hơi vật lý (PVD) và thường được sử dụng để sản xuất màng mỏng cho nhiều ứng dụng công nghiệp.Mục tiêu vonfram thường được làm từ vonfram có độ tinh khiết cao và được thiết kế để lắng đọng màng mỏng lên chất nền trong hệ thống PVD.

Trong quy trình PVD, nguồn năng lượng cao như chùm tia điện tử hoặc plasma được sử dụng để bắn phá mục tiêu vonfram, khiến các nguyên tử bị đẩy ra khỏi mục tiêu.Những nguyên tử bị đẩy ra này sau đó đi qua buồng chân không và lắng đọng trên bề mặt chất nền, tạo thành một màng mỏng.

Mục tiêu vonfram được đánh giá cao nhờ điểm nóng chảy cao, cho phép chúng chịu được nhiệt độ cao được tạo ra trong quá trình PVD.Ngoài ra, tính dẫn nhiệt và chống ăn mòn tuyệt vời của vonfram khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng cho hệ thống PVD.

Màng mỏng được sản xuất bằng mục tiêu vonfram có nhiều ứng dụng bao gồm ngành công nghiệp bán dẫn, quang học, điện tử và năng lượng mặt trời.Các đặc tính của màng, chẳng hạn như độ dẫn điện, độ phản xạ và độ cứng, có thể được tùy chỉnh bằng cách điều chỉnh quá trình lắng đọng, biến mục tiêu vonfram trở thành một công cụ linh hoạt để sản xuất màng mỏng công nghiệp.

Tại sao vonfram được sử dụng làm vật liệu mục tiêu?

Vonfram được sử dụng làm mục tiêu trong quá trình lắng đọng hơi vật lý (PVD) vì một số lý do:

1. Điểm nóng chảy cao: Vonfram có điểm nóng chảy cao nhất trong số tất cả các kim loại nên thích hợp chịu được nhiệt độ cao sinh ra trong quá trình PVD.Điều này cho phép mục tiêu vonfram chịu được ứng suất nhiệt và duy trì tính toàn vẹn cấu trúc của nó trong quá trình lắng đọng.

2. Độ dẫn nhiệt: Vonfram có tính dẫn nhiệt tuyệt vời và giúp tản nhiệt sinh ra trong quá trình PVD.Đặc tính này rất quan trọng để duy trì sự ổn định của mục tiêu và đảm bảo sự lắng đọng màng đồng đều.

3. Trơ về mặt hóa học: Vonfram có khả năng chống phản ứng hóa học và ăn mòn mạnh, khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng cho quy trình PVD.Trong quy trình PVD, vật liệu mục tiêu phải duy trì ổn định khi có khí phản ứng hoặc plasma năng lượng cao.

4. Chất lượng màng: Mục tiêu vonfram có thể tạo ra màng chất lượng cao với các đặc tính lý tưởng như mật độ cao, tính đồng nhất và độ bám dính với chất nền, khiến chúng phù hợp với nhiều ứng dụng công nghiệp.

Nhìn chung, sự kết hợp độc đáo các đặc tính của vonfram, bao gồm điểm nóng chảy cao, độ dẫn nhiệt và độ ổn định hóa học, khiến nó trở thành lựa chọn mục tiêu tuyệt vời trong quy trình PVD, có khả năng sản xuất nhiều loại màng hiệu suất cao.Ứng dụng công nghiệp.