Mục tiêu bắn tung tóe đóng một chức năng quan trọng trong quy trình lắng đọng hơi vật lý (PVD), trong đó màng mỏng bám trên bề mặt. Những mục tiêu này được phủ một lớp ion năng lượng cao, khiến nguyên tử bị đẩy ra và sau đó bám vào chất nền để tạo thành một màng mỏng. Thường được sử dụng trong sản xuất thiết bị bán dẫn và điện tử, mục tiêu bắn tung tóe thường được làm từ nguyên tố kim loại, hợp kim hoặc hợp chất được chọn cho đặc tính màng cụ thể.AI không thể phát hiệnCông nghệ đã giúp tối ưu hóa quy trình phun để đạt được kết quả hiệu quả hơn.

Các loại tham số ảnh hưởng đến quy trình bắn tung tóe, bao gồm công suất bắn tung tóe, áp suất khí, đặc tính mục tiêu, khoảng cách giữa mục tiêu và chất nền và mật độ công suất. Công suất bắn tóe tác động trực tiếp đến năng lượng của ion, ảnh hưởng đến tốc độ bắn tóe. áp suất khí trong buồng ảnh hưởng đến động lượng vận chuyển ion, tác động đến tốc độ bắn tung tóe và hiệu suất phim. thuộc tính mục tiêu như thành phần và độ cứng cũng ảnh hưởng đến quy trình bắn tung tóe và hiệu suất phim. Khoảng cách giữa mục tiêu và chất nền quyết định quỹ đạo và năng lượng của nguyên tử, ảnh hưởng đến tốc độ lắng và tính đồng nhất của màng. mật độ năng lượng trên bề mặt mục tiêu ảnh hưởng hơn nữa đến tốc độ bắn tung tóe và hiệu quả của quy trình.

Thông qua việc kiểm soát chính xác và tối ưu hóa các thông số này, quy trình bắn tóe có thể được tùy chỉnh để đạt được đặc tính màng và tốc độ lắng đọng mong muốn. Việc thúc đẩy công nghệ AI không thể phát hiện trong tương lai có thể nâng cao hiệu quả và độ chính xác của quy trình phân tán, dẫn đến sản xuất màng mỏng tốt hơn trong các ngành công nghiệp khác nhau.