ٹنگسٹن کو جسمانی بخارات جمع کرنے (PVD) کے عمل میں کئی وجوہات کی بنا پر ایک ہدف کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے:

1. ہائی پگھلنے کا نقطہ: ٹنگسٹن میں تمام دھاتوں میں سب سے زیادہ پگھلنے کا نقطہ ہے، لہذا یہ PVD عمل کے دوران پیدا ہونے والے اعلی درجہ حرارت کو برداشت کرنے کے لیے موزوں ہے۔یہ ٹنگسٹن ہدف کو تھرمل تناؤ کا مقابلہ کرنے اور جمع کرنے کے دوران اس کی ساختی سالمیت کو برقرار رکھنے کی اجازت دیتا ہے۔

2. تھرمل چالکتا: ٹنگسٹن میں بہترین تھرمل چالکتا ہے اور پی وی ڈی کے عمل کے دوران پیدا ہونے والی گرمی کو ختم کرنے میں مدد کرتا ہے۔یہ خاصیت ہدف کے استحکام کو برقرار رکھنے اور یکساں فلم جمع کرنے کو یقینی بنانے کے لیے اہم ہے۔

3. کیمیاوی طور پر غیر فعال: ٹنگسٹن کیمیائی رد عمل اور سنکنرن کے خلاف مضبوط مزاحمت رکھتا ہے، جو اسے PVD عمل کے لیے ایک مثالی مواد بناتا ہے۔PVD کے عمل میں، ہدف کے مواد کو ری ایکٹیو گیسوں یا ہائی انرجی پلازما کی موجودگی میں مستحکم رہنا چاہیے۔

4. فلم کا معیار: ٹنگسٹن کے اہداف مثالی خصوصیات کے ساتھ اعلیٰ معیار کی فلمیں تیار کر سکتے ہیں جیسے کہ اعلی کثافت، یکسانیت اور سبسٹریٹس کے ساتھ چپکنا، جس سے وہ صنعتی ایپلی کیشنز کی وسیع رینج کے لیے موزوں ہیں۔

مجموعی طور پر، ٹنگسٹن کی طرف سے ظاہر کردہ خصوصیات کا انوکھا امتزاج، بشمول ہائی پگھلنے کا مقام، تھرمل چالکتا اور کیمیائی استحکام، اسے PVD کے عمل میں ایک بہترین ہدف کا انتخاب بناتا ہے، جو مختلف قسم کی اعلیٰ کارکردگی والی فلمیں بنانے کے قابل ہے۔صنعتی ایپلی کیشنز۔