چھاتی کے بافتوں کی امیجنگ کے لیے اس کی سازگار خصوصیات کی وجہ سے مولبڈینم کو اکثر میموگرافی میں ہدف کے مواد کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے۔ Molybdenum میں نسبتاً کم ایٹم نمبر ہوتا ہے، جس کا مطلب ہے کہ اس سے پیدا ہونے والی ایکس رے چھاتی جیسے نرم بافتوں کی تصویر کشی کے لیے مثالی ہیں۔ Molybdenum کم توانائی کی سطح پر خصوصیت والی ایکس رے پیدا کرتا ہے، جو چھاتی کے بافتوں کی کثافت میں ٹھیک ٹھیک فرق کو دیکھنے کے لیے مثالی بناتا ہے۔

اس کے علاوہ، molybdenum میں اچھی تھرمل چالکتا خصوصیات ہیں، جو میموگرافی کے آلات میں اہم ہے جہاں بار بار ایکس رے کی نمائش عام ہے۔ گرمی کو مؤثر طریقے سے ختم کرنے کی صلاحیت ایکسرے ٹیوبوں کے استعمال کے طویل عرصے تک استحکام اور کارکردگی کو برقرار رکھنے میں مدد کرتی ہے۔

مجموعی طور پر، میموگرافی میں ٹارگٹ میٹریل کے طور پر molybdenum کا استعمال اس مخصوص ایپلی کیشن کے لیے مناسب ایکس رے خصوصیات فراہم کرکے چھاتی کی تصویر کشی کے معیار کو بہتر بنانے میں مدد کرتا ہے۔

سپٹر ٹارگٹ ایک ایسا مواد ہے جو فزیکل ویپر ڈیپوزیشن (PVD) کے عمل میں استعمال کیا جاتا ہے تاکہ سبسٹریٹس پر پتلی فلمیں یا ملمع کاری کی جا سکے۔ پھٹنے کے عمل کے دوران، ایک اعلی توانائی والی آئن بیم پھٹنے والے ہدف پر بمباری کرتی ہے، جس کی وجہ سے ہدف کے مواد سے ایٹم یا مالیکیول نکل جاتے ہیں۔ یہ چھڑکنے والے ذرات اس کے بعد سبسٹریٹ پر جمع کیے جاتے ہیں تاکہ ایک پتلی فلم کی تشکیل اسی ساخت کے ساتھ کی جائے جو کہ پھٹنے والے ہدف کی ہوتی ہے۔

سپٹرنگ اہداف مختلف قسم کے مواد سے بنائے جاتے ہیں، بشمول دھاتیں، مرکب، آکسائڈ اور دیگر مرکبات، جمع شدہ فلم کی مطلوبہ خصوصیات پر منحصر ہے. اسپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل کا انتخاب نتیجے میں بننے والی فلم کی خصوصیات کو نمایاں طور پر متاثر کر سکتا ہے، جیسے کہ اس کی برقی چالکتا، نظری خصوصیات یا مقناطیسی خصوصیات۔

سپٹرنگ اہداف مختلف صنعتوں جیسے سیمی کنڈکٹر مینوفیکچرنگ، آپٹیکل کوٹنگ، اور پتلی فلم سولر سیلز میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتے ہیں۔ پھٹنے والے اہداف کا پتلی فلم کے جمع ہونے پر عین کنٹرول انہیں جدید الیکٹرانک اور آپٹیکل آلات کی تیاری میں اہم بناتا ہے۔

زیادہ سے زیادہ کارکردگی کے لیے molybdenum اہداف کو منتخب کرنے اور استعمال کرنے میں کئی غور و فکر شامل ہیں:

1. پاکیزگی اور ساخت: اعلی طہارت مولیبڈینم ٹارگٹ میٹریل کو مستقل اور قابل بھروسہ اسپٹرنگ کارکردگی کو یقینی بنانے کے لیے منتخب کیا جاتا ہے۔ مولیبڈینم ٹارگٹ کی ساخت کو فلم کے جمع کرنے کی مخصوص ضروریات کے مطابق بنایا جانا چاہیے، جیسے کہ مطلوبہ فلم کی خصوصیات اور چپکنے والی خصوصیات۔

2. اناج کا ڈھانچہ: مولیبڈینم ہدف کے اناج کے ڈھانچے پر توجہ دیں کیونکہ یہ پھٹنے کے عمل اور جمع شدہ فلم کے معیار کو متاثر کرے گا۔ باریک دانوں والے مولیبڈینم کے اہداف پھٹنے والی یکسانیت اور فلم کی کارکردگی کو بہتر بناتے ہیں۔

3. ہدف جیومیٹری اور سائز: اسپٹرنگ سسٹم اور عمل کی ضروریات کو پورا کرنے کے لیے مناسب ہدف جیومیٹری اور سائز کا انتخاب کریں۔ ٹارگٹ ڈیزائن کو سبسٹریٹ پر موثر پھٹنے اور یکساں فلم کے جمع ہونے کو یقینی بنانا چاہئے۔

4. ٹھنڈک اور گرمی کی کھپت: ٹھنڈک اور گرمی کی کھپت کے مناسب طریقہ کار کو تھپکنے کے عمل کے دوران تھرمل اثرات کو منظم کرنے کے لیے استعمال کیا جانا چاہیے۔ یہ خاص طور پر molybdenum کے اہداف کے لیے اہم ہے، کیونکہ وہ گرمی سے متعلق مسائل کا شکار ہوتے ہیں۔

5. پھٹنے والے پیرامیٹرز: مطلوبہ فلمی خصوصیات اور جمع کرنے کی شرحوں کو حاصل کرنے کے لیے بجلی، دباؤ، اور گیس کے بہاؤ جیسے سپٹرنگ پیرامیٹرز کو بہتر بنائیں جبکہ ہدف کے کٹاؤ کو کم سے کم کریں اور طویل مدتی ہدف کی کارکردگی کو یقینی بنائیں۔

6. دیکھ بھال اور ہینڈلنگ: اس کی سروس کی زندگی کو بڑھانے اور مسلسل پھٹنے والی کارکردگی کو برقرار رکھنے کے لیے تجویز کردہ مولیبڈینم ٹارگٹ ہینڈلنگ، انسٹالیشن اور دیکھ بھال کے طریقہ کار پر عمل کریں۔

ان عوامل پر غور کرنے اور مولیبڈینم اہداف کا انتخاب اور استعمال کرتے وقت بہترین طریقوں پر عمل درآمد کرنے سے، زیادہ سے زیادہ پھٹنے والی کارکردگی حاصل کی جا سکتی ہے، جس کے نتیجے میں متعدد ایپلی کیشنز کے لیے اعلیٰ معیار کی پتلی فلم جمع ہوتی ہے۔