Метод хімічного осадження алмазу з парової фази (CVD) передбачає використання хімічного процесу для синтезу алмазної плівки або покриття в контрольованому середовищі. У цьому методі газова суміш, яка зазвичай містить вуглеводневі гази, такі як метан, вводиться в реакційну камеру разом з матеріалом підкладки, таким як молібденові пластини або алмазні пластини. Потім газ активується різними способами, такими як тепло або плазма, щоб розщепити молекули вуглеводнів і осадити атоми вуглецю на підкладці, що призводить до зростання кристалів алмазу.

Процес обробки алмазу CVD пропонує кілька переваг, зокрема можливість отримувати високоякісні алмазні покриття з точним контролем товщини, однорідності та складу. Це також дозволяє наносити алмазні плівки на різноманітні матеріали підкладки, що дозволяє створювати деталі з алмазним покриттям для різноманітних промислових і дослідницьких застосувань.

Загалом метод CVD алмазу є універсальною та широко використовуваною технікою для виробництва синтетичних алмазних плівок і покриттів із індивідуальними властивостями, що робить їх цінними в таких галузях, як електроніка, ріжучі інструменти та зносостійкі покриття.