Tantal püskürtme hedefleri, çeşitli malzemelerden oluşan ince filmlerin bir alt tabaka üzerine biriktirilmesine yönelik bir yöntem olan püskürtme biriktirme işleminde kullanılır. Tantal püskürtme hedefleri durumunda, tantal ince filmleri yarı iletken levhalar, ekran kaplamaları ve diğer elektronik bileşenler gibi çeşitli yüzeylere biriktirmek için kullanılırlar. Püskürtme biriktirme işlemi sırasında, tantal püskürtme hedefi yüksek enerjili iyonlar tarafından bombardımana tutularak tantal atomlarının hedeften fırlatılmasına ve alt tabaka üzerinde ince bir film şeklinde birikmesine neden olur. İşlem, film kalınlığının ve tekdüzeliğinin hassas kontrolüne olanak tanır ve bu da onu elektronik cihazların ve diğer yüksek teknolojili ürünlerin üretiminde önemli bir yöntem haline getirir. Tantal püskürtme hedefleri, yüksek erime noktaları, kimyasal inertlikleri ve çeşitli alt tabaka malzemeleriyle uyumlulukları nedeniyle değerlidir; bu da onları dayanıklı ve yüksek kaliteli filmler gerektiren uygulamalar için ideal kılar. Bu hedefler kapasitörlerin, entegre devrelerin ve diğer elektronik cihazların üretiminde yaygın olarak kullanılmaktadır.