endüstri için saf% 99,95 tungsten hedef tungsten diski
Tungsten hedefler, fiziksel buhar biriktirme (PVD) işleminde kullanılan özel bir malzemedir ve çeşitli endüstriyel uygulamalar için ince filmler üretmek için yaygın olarak kullanılır.Tungsten hedefleri tipik olarak yüksek saflıkta tungstenden yapılır ve PVD sistemlerinde alt tabakalar üzerine ince filmler biriktirmek için tasarlanmıştır.
PVD işleminde, bir tungsten hedefini bombardıman etmek için elektron ışını veya plazma gibi yüksek enerjili bir kaynak kullanılır ve atomların hedeften fırlatılmasına neden olur.Fırlatılan bu atomlar daha sonra bir vakum odasından geçer ve bir alt tabakanın yüzeyinde biriktirilerek ince bir film oluşturulur.
Tungsten hedefleri, PVD sırasında oluşan yüksek sıcaklıklara dayanmalarına olanak tanıyan yüksek erime noktaları nedeniyle değerlidir.Ayrıca tungstenin mükemmel ısı iletkenliği ve korozyon direnci, onu PVD sistemleri için ideal bir malzeme haline getirir.
Tungsten hedefleri kullanılarak üretilen ince filmler, yarı iletken endüstrisi, optik, elektronik ve güneş enerjisi dahil olmak üzere geniş bir uygulama alanına sahiptir.İletkenlik, yansıtma ve sertlik gibi film özellikleri, biriktirme işleminin ayarlanmasıyla özelleştirilebilir; bu da tungsten hedeflerini endüstriyel ince film üretimi için çok yönlü bir araç haline getirir.
Tungsten, çeşitli nedenlerden dolayı fiziksel buhar biriktirme (PVD) işleminde hedef olarak kullanılır:
1. Yüksek erime noktası: Tungsten tüm metaller arasında en yüksek erime noktasına sahiptir, dolayısıyla PVD işlemi sırasında oluşan yüksek sıcaklıklara dayanmaya uygundur.Bu, tungsten hedefinin termal strese dayanmasına ve biriktirme sırasında yapısal bütünlüğünü korumasına olanak tanır.
2. Termal iletkenlik: Tungsten mükemmel termal iletkenliğe sahiptir ve PVD işlemi sırasında üretilen ısının dağıtılmasına yardımcı olur.Bu özellik, hedef stabilitesinin korunması ve düzgün film birikiminin sağlanması açısından kritik öneme sahiptir.
3. Kimyasal olarak inert: Tungsten, kimyasal reaksiyonlara ve korozyona karşı güçlü bir dirence sahiptir ve bu da onu PVD işlemi için ideal bir malzeme haline getirir.PVD prosesinde hedef malzemenin reaktif gazlar veya yüksek enerjili plazma varlığında stabil kalması gerekir.
4. Film kalitesi: Tungsten hedefler, yüksek yoğunluk, tekdüzelik ve alt tabakalara yapışma gibi ideal özelliklere sahip yüksek kaliteli filmler üretebilir ve bu da onları çok çeşitli endüstriyel uygulamalar için uygun hale getirir.
Genel olarak, yüksek erime noktası, termal iletkenlik ve kimyasal kararlılık dahil olmak üzere tungstenin sergilediği özelliklerin benzersiz birleşimi, onu PVD işleminde çeşitli yüksek performanslı filmler üretme kapasitesine sahip mükemmel bir hedef seçim haline getiriyor.Endüstriyel uygulamalar.
Wechat: 15138768150
WhatsApp: +86 15838517324
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
