Elmasın kimyasal buhar biriktirme (CVD) yöntemi, kontrollü bir ortamda bir elmas filmi veya kaplamayı sentezlemek için kimyasal bir işlemin kullanılmasını içerir. Bu yöntemde, tipik olarak metan gibi hidrokarbon gazları içeren bir gaz karışımı, molibden levhalar veya elmas levhalar gibi bir substrat malzemesiyle birlikte bir reaksiyon odasına verilir. Daha sonra gaz, hidrokarbon moleküllerini parçalamak ve karbon atomlarını substrat üzerine biriktirmek için ısı veya plazma gibi çeşitli yollarla aktive edilir ve bu da elmas kristallerinin büyümesine neden olur.

Elmasın CVD işlemi, kalınlık, tekdüzelik ve kompozisyonun hassas kontrolü ile yüksek kaliteli elmas kaplamalar üretme yeteneği de dahil olmak üzere çeşitli avantajlar sunar. Aynı zamanda elmas filmlerin çeşitli alt tabaka malzemeleri üzerine biriktirilmesine de olanak tanıyarak çeşitli endüstriyel ve araştırma uygulamaları için elmas kaplı parçaların oluşturulmasına olanak tanır.

Genel olarak CVD elmas yöntemi, özelleştirilmiş özelliklere sahip sentetik elmas filmler ve kaplamalar üretmek için çok yönlü ve yaygın olarak kullanılan bir tekniktir; bu da onları elektronik, kesici takımlar ve aşınmaya dayanıklı kaplamalar gibi endüstrilerde değerli kılar.