வைரத்தின் இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) முறையானது, கட்டுப்படுத்தப்பட்ட சூழலில் ஒரு வைரப் படலம் அல்லது பூச்சுகளை ஒருங்கிணைக்க இரசாயன செயல்முறையைப் பயன்படுத்துவதை உள்ளடக்கியது. இந்த முறையில், பொதுவாக மீத்தேன் போன்ற ஹைட்ரோகார்பன் வாயுக்களைக் கொண்ட ஒரு வாயு கலவையானது, மாலிப்டினம் செதில்கள் அல்லது வைரச் செதில்கள் போன்ற அடி மூலக்கூறு பொருட்களுடன் ஒரு எதிர்வினை அறைக்குள் அறிமுகப்படுத்தப்படுகிறது. ஹைட்ரோகார்பன் மூலக்கூறுகளை உடைத்து கார்பன் அணுக்களை அடி மூலக்கூறில் வைப்பதற்கு வெப்பம் அல்லது பிளாஸ்மா போன்ற பல்வேறு வழிகளில் வாயு செயல்படுத்தப்படுகிறது, இதன் விளைவாக வைர படிகங்கள் உருவாகின்றன.

வைரத்தின் CVD செயல்முறையானது தடிமன், சீரான தன்மை மற்றும் கலவை ஆகியவற்றின் துல்லியமான கட்டுப்பாட்டுடன் உயர்தர வைர பூச்சுகளை உற்பத்தி செய்யும் திறன் உட்பட பல நன்மைகளை வழங்குகிறது. இது பல்வேறு அடி மூலக்கூறு பொருட்களில் வைர படங்களின் படிவுகளை அனுமதிக்கிறது, பல்வேறு தொழில்துறை மற்றும் ஆராய்ச்சி பயன்பாடுகளுக்கு வைர-பூசப்பட்ட பாகங்களை உருவாக்க உதவுகிறது.

ஒட்டுமொத்தமாக, வைரத்தின் CVD முறையானது செயற்கை வைரத் திரைப்படங்கள் மற்றும் தனிப்பயனாக்கப்பட்ட பண்புகளுடன் கூடிய பூச்சுகளை தயாரிப்பதற்கான பல்துறை மற்றும் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படும் நுட்பமாகும், இது மின்னணுவியல், வெட்டும் கருவிகள் மற்றும் அணிய-எதிர்ப்பு பூச்சுகள் போன்ற தொழில்களில் மதிப்புமிக்கதாக அமைகிறது.