மார்பக திசுக்களை இமேஜிங் செய்வதற்கான சாதகமான பண்புகள் காரணமாக மாலிப்டினம் பெரும்பாலும் மேமோகிராஃபியில் இலக்கு பொருளாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது. மாலிப்டினம் ஒப்பீட்டளவில் குறைந்த அணு எண்ணைக் கொண்டுள்ளது, அதாவது அது உருவாக்கும் எக்ஸ்-கதிர்கள் மார்பகம் போன்ற மென்மையான திசுக்களை இமேஜிங் செய்வதற்கு ஏற்றதாக இருக்கும். மாலிப்டினம் குறைந்த ஆற்றல் மட்டங்களில் சிறப்பியல்பு X-கதிர்களை உருவாக்குகிறது, இது மார்பக திசுக்களின் அடர்த்தியில் உள்ள நுட்பமான வேறுபாடுகளைக் கவனிப்பதற்கு ஏற்றதாக அமைகிறது.

கூடுதலாக, மாலிப்டினம் நல்ல வெப்ப கடத்துத்திறன் பண்புகளைக் கொண்டுள்ளது, இது மம்மோகிராஃபி கருவிகளில் முக்கியமானது, மீண்டும் மீண்டும் எக்ஸ்ரே வெளிப்பாடுகள் பொதுவானவை. வெப்பத்தை திறம்படச் சிதறடிக்கும் திறன், எக்ஸ்ரே குழாய்களின் ஸ்திரத்தன்மை மற்றும் செயல்திறனை நீண்ட கால பயன்பாட்டில் பராமரிக்க உதவுகிறது.

ஒட்டுமொத்தமாக, மேமோகிராஃபியில் மாலிப்டினத்தை இலக்குப் பொருளாகப் பயன்படுத்துவது, இந்த குறிப்பிட்ட பயன்பாட்டிற்கு பொருத்தமான எக்ஸ்ரே பண்புகளை வழங்குவதன் மூலம் மார்பக இமேஜிங்கின் தரத்தை மேம்படுத்த உதவுகிறது.

ஸ்பட்டர் இலக்கு என்பது இயற்பியல் நீராவி படிவு (PVD) செயல்பாட்டில் மெல்லிய படலங்கள் அல்லது அடி மூலக்கூறுகளில் பூச்சுகளை உருவாக்க பயன்படும் ஒரு பொருள் ஆகும். ஸ்பட்டரிங் செயல்பாட்டின் போது, ​​அதிக ஆற்றல் கொண்ட அயன் கற்றை ஸ்பட்டரிங் இலக்கை தாக்குகிறது, இதனால் இலக்கு பொருளில் இருந்து அணுக்கள் அல்லது மூலக்கூறுகள் வெளியேற்றப்படுகின்றன. இந்த தெளிக்கப்பட்ட துகள்கள் அடி மூலக்கூறின் மீது டெபாசிட் செய்யப்பட்டு, ஸ்பட்டரிங் இலக்கின் அதே கலவையுடன் ஒரு மெல்லிய படலத்தை உருவாக்குகின்றன.

உலோகங்கள், உலோகக்கலவைகள், ஆக்சைடுகள் மற்றும் பிற சேர்மங்கள் உள்ளிட்ட பல்வேறு பொருட்களிலிருந்து, டெபாசிட் செய்யப்பட்ட படத்தின் விரும்பிய பண்புகளைப் பொறுத்து, ஸ்பட்டரிங் இலக்குகள் உருவாக்கப்படுகின்றன. ஸ்பட்டரிங் இலக்குப் பொருளைத் தேர்ந்தெடுப்பது அதன் மின் கடத்துத்திறன், ஒளியியல் பண்புகள் அல்லது காந்த பண்புகள் போன்ற விளைவான படத்தின் பண்புகளை கணிசமாக பாதிக்கலாம்.

செமிகண்டக்டர் உற்பத்தி, ஆப்டிகல் பூச்சு மற்றும் மெல்லிய படல சூரிய மின்கலங்கள் போன்ற பல்வேறு தொழில்களில் ஸ்பட்டரிங் இலக்குகள் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன. ஸ்பட்டரிங் இலக்குகளின் மெல்லிய படப் படிவு மீதான துல்லியமான கட்டுப்பாடு, மேம்பட்ட மின்னணு மற்றும் ஒளியியல் சாதனங்களின் உற்பத்தியில் அவற்றை முக்கியமானதாக ஆக்குகிறது.

உகந்த செயல்திறனுக்காக மாலிப்டினம் இலக்குகளைத் தேர்ந்தெடுத்துப் பயன்படுத்துவதில் பல பரிசீலனைகள் உள்ளன:

1. தூய்மை மற்றும் கலவை: உயர்-தூய்மை மாலிப்டினம் இலக்கு பொருட்கள் நிலையான மற்றும் நம்பகமான sputtering செயல்திறனை உறுதி செய்ய தேர்ந்தெடுக்கப்படுகின்றன. மாலிப்டினம் இலக்கின் கலவையானது, விரும்பிய படப் பண்புகள் மற்றும் ஒட்டுதல் பண்புகள் போன்ற குறிப்பிட்ட படப் படிவுத் தேவைகளுக்கு ஏற்ப வடிவமைக்கப்பட வேண்டும்.

2. தானிய அமைப்பு: மாலிப்டினம் இலக்கின் தானிய அமைப்பில் கவனம் செலுத்துங்கள், ஏனெனில் இது ஸ்பட்டரிங் செயல்முறை மற்றும் டெபாசிட் செய்யப்பட்ட படத்தின் தரத்தை பாதிக்கும். நுண்ணிய மாலிப்டினம் இலக்குகள் ஸ்பட்டரிங் சீரான தன்மை மற்றும் திரைப்பட செயல்திறனை மேம்படுத்துகின்றன.

3. இலக்கு வடிவியல் மற்றும் அளவு: sputtering அமைப்பு மற்றும் செயல்முறை தேவைகள் பொருந்தும் பொருத்தமான இலக்கு வடிவியல் மற்றும் அளவு தேர்ந்தெடுக்கவும். இலக்கு வடிவமைப்பு, அடி மூலக்கூறில் திறமையான ஸ்பட்டரிங் மற்றும் சீரான படப் படிவு ஆகியவற்றை உறுதி செய்ய வேண்டும்.

4. குளிர்ச்சி மற்றும் வெப்பச் சிதறல்: ஸ்பட்டரிங் செயல்பாட்டின் போது வெப்ப விளைவுகளை நிர்வகிக்க பொருத்தமான குளிர்ச்சி மற்றும் வெப்பச் சிதறல் வழிமுறைகள் பயன்படுத்தப்பட வேண்டும். மாலிப்டினம் இலக்குகளுக்கு இது மிகவும் முக்கியமானது, ஏனெனில் அவை வெப்பம் தொடர்பான பிரச்சனைகளுக்கு ஆளாகின்றன.

5. ஸ்பட்டரிங் அளவுருக்கள்: இலக்கு அரிப்பைக் குறைத்து நீண்ட கால இலக்கு செயல்திறனை உறுதி செய்யும் போது விரும்பிய பட பண்புகள் மற்றும் படிவு விகிதங்களை அடைய சக்தி, அழுத்தம் மற்றும் வாயு ஓட்டம் போன்ற ஸ்பட்டரிங் அளவுருக்களை மேம்படுத்தவும்.

6. பராமரிப்பு மற்றும் கையாளுதல்: பரிந்துரைக்கப்பட்ட மாலிப்டினம் இலக்கு கையாளுதல், நிறுவல் மற்றும் பராமரிப்பு நடைமுறைகளைப் பின்பற்றி அதன் சேவை ஆயுளை நீட்டிக்கவும் மற்றும் சீரான ஸ்பட்டரிங் செயல்திறனை பராமரிக்கவும்.

இந்தக் காரணிகளைக் கருத்தில் கொண்டு, மாலிப்டினம் இலக்குகளைத் தேர்ந்தெடுத்துப் பயன்படுத்தும் போது சிறந்த நடைமுறைகளைச் செயல்படுத்துவதன் மூலம், உகந்த ஸ்பட்டரிங் செயல்திறனை அடைய முடியும், இதன் விளைவாக பல்வேறு பயன்பாடுகளுக்கு உயர்தர மெல்லிய படப் படிவு கிடைக்கும்.