Usafi wa hali ya juu wa titan unaolengwa kwa mipako ya utupu
Malengo ya sputter ni nyenzo zenye ubora wa juu zinazotumika katika michakato ya uwekaji wa mvuke halisi (PVD), haswa teknolojia ya kunyunyiza.Nyenzo hizi hutumiwa kuunda filamu nyembamba kwenye substrates katika sekta mbalimbali, ikiwa ni pamoja na utengenezaji wa semiconductor, mipako ya macho, na uwekaji wa filamu nyembamba kwa vifaa vya elektroniki.
Vifaa vinavyolengwa vya sputter vinaweza kufanywa kutoka kwa vipengele na misombo mbalimbali, ikiwa ni pamoja na metali, aloi, oksidi na nitridi.Uchaguzi wa nyenzo inayolengwa ya sputter inategemea mali maalum inayohitajika kwa mipako nyembamba ya filamu, kama vile conductivity ya umeme, mali ya macho, ugumu na upinzani wa kemikali.
Malengo ya kawaida ya kunyunyiza ni pamoja na metali kama vile titani, alumini na shaba, pamoja na misombo kama vile oksidi ya bati ya indium (ITO) na oksidi mbalimbali za chuma.Kuchagua nyenzo zinazofaa za kunyunyiza ni muhimu ili kufikia sifa zinazohitajika na utendaji wa mipako nyembamba ya filamu.
Malengo ya kunyunyiza huja kwa ukubwa tofauti kulingana na mahitaji maalum ya mchakato wa uwekaji wa filamu nyembamba na vifaa vya kunyunyiza.Saizi ya shabaha ya kunyunyiza inaweza kuanzia sentimita chache hadi makumi ya sentimita kwa kipenyo, na unene pia unaweza kutofautiana.
Ukubwa wa shabaha ya kunyunyiza huamuliwa na vipengele kama vile ukubwa wa substrate ya kufunikwa, usanidi wa mfumo wa kunyunyiza, na kiwango cha utuaji kinachohitajika na usawa.Zaidi ya hayo, saizi ya shabaha ya kunyunyizia maji inaweza kuathiriwa na mahitaji mahususi ya utumizi wa filamu nyembamba, kama vile eneo la kupakiwa na vigezo vya jumla vya mchakato.
Hatimaye, ukubwa wa shabaha ya sputter huchaguliwa ili kuhakikisha utuaji mzuri na sare wa filamu kwenye substrate, kukidhi mahitaji maalum ya mchakato wa mipako nyembamba ya filamu katika utengenezaji wa semiconductor, mipako ya macho na matumizi mengine yanayohusiana.
Kuna njia kadhaa za kuongeza kiwango cha sputtering katika mchakato wa sputtering:
1. Uboreshaji wa Nguvu na Shinikizo: Kurekebisha vigezo vya nguvu na shinikizo katika mfumo wa sputtering kunaweza kuathiri kiwango cha sputtering.Kuongeza nguvu na kuboresha hali ya shinikizo kunaweza kuongeza kiwango cha kunyunyiza, na kusababisha utuaji wa haraka wa filamu nyembamba.
2. Nyenzo Lengwa na Jiometri: Kutumia shabaha za sputtering na utungaji wa nyenzo iliyoboreshwa na jiometri kunaweza kuboresha kiwango cha urushaji maji.Malengo ya ubora wa juu, yaliyoundwa vyema yanaweza kuongeza ufanisi wa kunyunyiza na kusababisha viwango vya juu vya uwekaji.
3. Utayarishaji wa Uso Uliolengwa: Usafishaji na uwekaji sawa wa uso unaolengwa unaweza kuchangia kuongezeka kwa viwango vya utupaji.Kuhakikisha sehemu inayolengwa haina uchafu na oksidi kunaweza kuboresha ufanisi wa kunyunyiza.
4. Joto la Substrate: Kudhibiti halijoto ya substrate kunaweza kuathiri kiwango cha kumwagika.Katika baadhi ya matukio, kuongeza halijoto ya substrate ndani ya masafa fulani kunaweza kusababisha viwango vya juu vya kunyunyiza maji na kuboresha ubora wa filamu.
5. Mtiririko na Muundo wa Gesi: Kuboresha mtiririko wa gesi na muundo katika chumba cha kunyunyizia kunaweza kuathiri kiwango cha kunyunyiza.Kurekebisha viwango vya mtiririko wa gesi na kutumia michanganyiko ifaayo ya gesi ya kunyunyiza kunaweza kuongeza ufanisi wa mchakato wa kunyunyiza.
Kwa kuzingatia kwa uangalifu mambo haya na kuboresha vigezo vya mchakato wa kunyunyiza, inawezekana kuongeza kiwango cha utupaji na kuboresha ufanisi wa jumla wa uwekaji wa filamu nyembamba katika matumizi ya sputtering.
Wechat:15138768150
WhatsApp: +86 15838517324
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
