Cina W1 wolfram parahu tungsten murni pikeun palapis vakum Produsén jeung Supplier |Ngajalin Tungsten

W1 parahu wolfram tungsten murni pikeun palapis vakum

Katerangan pondok:

W1 parahu tungsten murni sering dianggo dina prosés palapis vakum.Parahu ieu dirancang pikeun ngandung sareng ngangkut bahan sapertos logam atanapi zat sanés dina sistem évaporasi vakum.Titik lebur tinggi tungsten murni sareng konduktivitas termal anu saé ngajantenkeun cocog pikeun aplikasi ieu, sabab tiasa tahan suhu anu luhur sareng nyayogikeun pemanasan seragam anu diperyogikeun pikeun nguap bahan dina lingkungan vakum.

Kirim surélék ka kami Unduh salaku PDF

Rincian produk

Tag produk

Naon téhnik évaporasi vakum metallization?

Téknologi évaporasi vakum pikeun metalisasi ngalibatkeun neundeun film ipis logam dina substrat nganggo lingkungan vakum anu luhur sareng prosés déposisi uap fisik (PVD).Dina téknologi ieu, bahan sumber logam, sapertos alumunium, emas atanapi pérak, dipanaskeun dina kapal évaporasi, nyababkeun nguap teras ngembun kana substrat pikeun ngabentuk pilem logam anu ipis sareng seragam.

Léngkah-léngkah dina téknologi évaporasi vakum metalisasi umumna kalebet:

1. Persiapan: Ngabersihan substrat pikeun metallized sarta nempatkeun eta dina chamber vakum.

2. Évaporasi: Pasang bahan sumber logam kana parahu évaporasi, sapertos parahu tungsten, sareng panaskeun kana suhu évaporasi dina lingkungan vakum anu luhur.Nalika logam evaporates, éta ngalir dina garis lempeng ka substrat.

3. déposisi: uap logam condenses dina substrat pikeun ngabentuk pilem ipis nu tataman kana beungeut cai.

4. Tumuwuhna pilem: Prosés déposisi terus nepi ka ketebalan pilem logam dipikahoyong kahontal.

5. processing saterusna: Saatos metallization, substrat bisa ngalaman léngkah processing tambahan, kayaning annealing atawa palapis, pikeun ningkatkeun pidangan sipat pilem logam.

Téknologi metalisasi évaporasi vakum seueur dianggo dina industri sapertos éléktronika, optik, sareng otomotif, dimana film logam diterapkeun kana substrat pikeun ngahontal konduktif, reflektif, atanapi hiasan.

Naon sumber évaporasi vakum?

Sumber évaporasi vakum dina prosés déposisi film ipis biasana lingkungan vakum tinggi dijieun dina chamber vakum.Kamar vakum dilengkepan pompa vakum anu ngaluarkeun hawa sareng gas sanésna pikeun nyiptakeun lingkungan tekanan rendah.Pompa vakum tiasa tina sababaraha jinis, sapertos pompa vane Rotary, pompa difusi atanapi pompa turbomolecular, gumantung kana syarat khusus prosésna.

Sakali chamber vakum ngahontal lingkungan-tekanan low diperlukeun, bahan pikeun ngejat dipanaskeun dina parahu évaporasi (sapertos W1 Pure Tungsten Boat) ngagunakeun pemanasan résistif atawa pamanas sinar éléktron.Nalika bahan ngahontal suhu vaporization na, eta evaporates tur ngumbara dina garis lempeng ka substrat, dimana eta condenses pikeun ngabentuk lapisan pilem ipis.

Lingkungan vakum anu luhur penting pisan pikeun kasuksésan prosés évaporasi vakum sabab ngaminimalkeun ayana molekul gas sareng rereged, ngamungkinkeun déposisi pilem seragam anu kualitas luhur dina substrat.