Cina murni 99,95% tungsten target tungsten disc pikeun industri Produsén jeung Supplier |Ngajalin Tungsten

murni 99,95% tungsten target tungsten disc pikeun industri

murni 99,95% tungsten udagan tungsten disc pikeun industri Diulas Gambar

Katerangan pondok:

Target tungsten sareng piringan tungsten biasana dianggo dina sababaraha aplikasi industri, khususna dina prosés deposisi pilem ipis sareng palapis.Tungsten dipikanyaho pikeun titik lebur tinggi na, konduktivitas termal alus teuing jeung résistansi korosi, sahingga hiji bahan idéal pikeun aplikasi misalna.

Kirim surélék ka kami Unduh salaku PDF

Rincian produk

Tag produk

Naon target tungsten?

Target tungsten mangrupikeun bahan khusus anu dianggo dina prosés déposisi uap fisik (PVD) sareng biasana dianggo pikeun ngahasilkeun film ipis pikeun sababaraha aplikasi industri.Target tungsten ilaharna dijieun tina tungsten-purity tinggi na dirancang pikeun depositing film ipis onto substrat dina sistem PVD.

Dina prosés PVD, sumber énergi anu luhur sapertos sinar éléktron atanapi plasma dianggo pikeun ngabom target tungsten, nyababkeun atom-atom diusir tina udagan.Atom-atom anu dikaluarkeun ieu teras nembus kamar vakum sareng disimpen dina permukaan substrat, ngabentuk film ipis.

Target tungsten dihargaan pikeun titik leburna anu luhur, anu ngamungkinkeun aranjeunna tahan suhu luhur anu dihasilkeun nalika PVD.Salaku tambahan, konduktivitas termal anu saé sareng résistansi korosi tungsten ngajantenkeun bahan idéal pikeun sistem PVD.

Film ipis anu diproduksi nganggo target tungsten ngagaduhan rupa-rupa aplikasi kalebet industri semikonduktor, optik, éléktronika sareng tanaga surya.Sipat pilem, sapertos konduktivitas, reflectivity sareng karasa, tiasa disaluyukeun ku nyaluyukeun prosés déposisi, ngajantenkeun tungsten nargétkeun alat anu serbaguna pikeun produksi pilem ipis industri.

Naha tungsten dianggo salaku bahan target?

Tungsten dianggo salaku udagan dina prosés déposisi uap fisik (PVD) kusabab sababaraha alesan:

1. Titik lebur tinggi: Tungsten boga titik lebur pangluhurna diantara sakabeh logam, jadi éta cocog pikeun tahan suhu luhur dihasilkeun salila prosés PVD.Hal ieu ngamungkinkeun target tungsten nahan setrés termal sareng ngajaga integritas strukturna nalika déposisi.

2. konduktivitas termal: Tungsten boga konduktivitas termal alus teuing jeung mantuan dissipate panas dihasilkeun salila prosés PVD.Sipat ieu penting pikeun ngajaga stabilitas target sareng mastikeun déposisi pilem seragam.

3. Kimia mulya: Tungsten boga lalawanan kuat pikeun réaksi kimiawi jeung korosi, sahingga hiji bahan idéal pikeun prosés PVD.Dina prosés PVD, bahan target kedah tetep stabil dina ayana gas réaktif atanapi plasma énergi tinggi.

4. Kualitas pilem: target Tungsten bisa ngahasilkeun pilem kualitas luhur mibanda sipat idéal kayaning dénsitas luhur, uniformity na adhesion kana substrat, sahingga cocog pikeun rupa-rupa aplikasi industri.

Gemblengna, kombinasi unik sipat exhibited ku tungsten, kaasup titik lebur tinggi, konduktivitas termal jeung stabilitas kimiawi, nyieun hiji pilihan target unggulan dina prosés PVD, sanggup ngahasilkeun rupa-rupa pilem-kinerja tinggi.Aplikasi industri.