Цхина В1 пуре волфрам волфрам чамац за вакуумско премазивање Произвођач и добављач |Ковани волфрам

В1 чист волфрам чамац од волфрама за вакумско премазивање

В1 чамац од чистог волфрама од волфрама за вакуумско премазивање Истакнута слика

Кратак опис:

В1 чамац од чистог волфрама се често користи у процесу вакуумског премаза.Ови чамци су дизајнирани да садрже и транспортују материјале као што су метали или друге супстанце у системима за вакуумско испаравање.Висока тачка топљења чистог волфрама и одлична топлотна проводљивост чине га идеалним за ову примену, јер може да издржи високе температуре и обезбеди равномерно загревање потребно за испаравање материјала у вакуумском окружењу.

Пошаљите нам емаил Преузмите као ПДФ

Детаљи о производу

Ознаке производа

Која је техника метализације у вакууму?

Технологија вакуумског испаравања за метализацију укључује наношење танких слојева метала на подлоге коришћењем окружења високог вакума и процеса физичког таложења паре (ПВД).У овој технологији, изворни материјал метала, као што је алуминијум, злато или сребро, се загрева у чамцу за испаравање, што доводи до његовог испаравања, а затим кондензације на подлогу да би се формирао танак и уједначен метални филм.

Кораци укључени у технологију вакуумског испаравања метализације генерално укључују:

1. Припрема: Очистите подлогу за метализацију и ставите је у вакуум комору.

2. Испаравање: Ставите изворни материјал метала у чамац за испаравање, као што је волфрам чамац, и загрејте га до температуре испаравања у окружењу високог вакуума.Када метал испари, он се креће праволинијски до подлоге.

3. Таложење: Метална пара се кондензује на подлози и формира танак филм који пријања на површину.

4. Раст филма: Процес таложења се наставља све док се не постигне жељена дебљина металног филма.

5. Накнадна обрада: Након метализације, супстрат се може подвргнути додатним корацима обраде, као што су жарење или премазивање, како би се побољшала својства металног филма.

Технологија метализације вакуумским испаравањем се широко користи у индустријама као што су електроника, оптика и аутомобилска индустрија, где се метални филмови наносе на подлоге за постизање проводљивих, рефлектујућих или декоративних завршних обрада.

Шта је извор вакуумског испаравања?

Извор вакуумског испаравања у процесима таложења танког филма је обично окружење високог вакума створено у вакуумској комори.Вакум комора је опремљена вакуум пумпом која уклања ваздух и друге гасове како би створила окружење ниског притиска.Вакум пумпе могу бити различитих типова, као што су ротационе пумпе, дифузионе пумпе или турбомолекуларне пумпе, у зависности од специфичних захтева процеса.

Када вакуумска комора достигне потребну средину ниског притиска, материјал који треба да се испари се загрева у чамцу за испаравање (као што је В1 Пуре Тунгстен Боат) коришћењем отпорног грејања или грејања електронским снопом.Када материјал достигне температуру испаравања, он испарава и путује праволинијски до подлоге, где се кондензује да би формирао танки филм премаз.

Високо вакуумско окружење је критично за успех процеса вакуумског испаравања јер минимизира присуство молекула гаса и загађивача, омогућавајући таложење висококвалитетних, униформних филмова на подлогу.