Objektivat e spërkatjes së tantalit përdoren në procesin e depozitimit të spërkatjes, një metodë e depozitimit të filmave të hollë të materialeve të ndryshme në një nënshtresë. Në rastin e objektivave të spërkatjes së tantalit, ato përdoren për të depozituar filma të hollë të tantalit në një sërë sipërfaqesh, të tilla si vafera gjysmëpërçuese, veshje ekrani dhe komponentë të tjerë elektronikë. Gjatë procesit të depozitimit të spërkatjes, objektivi i spërkatjes së tantalit bombardohet nga jone me energji të lartë, duke bërë që atomet e tantalit të nxirren nga objektivi dhe të depozitohen në nënshtresë në formën e një filmi të hollë. Procesi lejon kontroll të saktë të trashësisë dhe uniformitetit të filmit, duke e bërë atë një metodë të rëndësishme për prodhimin e pajisjeve elektronike dhe produkteve të tjera të teknologjisë së lartë. Objektivat e spërkatjes së tantalit vlerësohen për pikën e tyre të lartë të shkrirjes, inertitetin kimik dhe përputhshmërinë me një sërë materialesh të nënshtresës, duke i bërë ato ideale për aplikime që kërkojnë filma të qëndrueshëm dhe me cilësi të lartë. Këto objektiva përdoren zakonisht në prodhimin e kondensatorëve, qarqeve të integruara dhe pajisjeve të tjera elektronike.