Tungstenu'u fa'asao

Mama: W ≥ 99.95%

Tulaga o luga: Fa'amama vaila'au po'o le fa'aiila eletise.

Liu liusuavai: 3420 ± 20 ℃

Tele: e tusa ai ma le ata ua saunia.

Ituaiga : Sa'o, U foliga, V foliga, Ato.Helical.

Talosaga: Tungsten uaea faʻavevela e masani ona faʻaaogaina mo elemene faʻavevela e pei o le faʻalava ata, faʻata, palasitika, mea uʻamea, ABS, PP ma isi mea palasitika i luga o mea teuteu eseese. O le uaea tungsten e masani ona faʻaaogaina e fai ma mea mata mo le faʻavevela.

galuega faavae: Tungsten e maualuga le liusuavai, maualuga le malosi o le eletise, malosi lelei ma maualalo le mamafa o le ausa, e talafeagai mo le faʻaaogaina o se faʻavevela. O le membrane e tuʻuina i totonu o se faʻavevela i totonu o se potu gaogao, ma faʻavevela i lalo o se tulaga maualuga maualuga e se faʻavevela (tungsten heater) e faʻafefe. Pe a sili atu le ala saʻoloto o le ausa molelaʻau nai lo le laina laina o le vacuum chamber, o atoms o le ausa A maeʻa ona sola ese mole mai luga o le puna o le ausa, e seasea ona aʻafia pe faʻalavelaveina e isi molelaʻau poʻo atoms, ma e mafai ona oʻo saʻo i luga o le substrate e faʻapipiʻi. Ona o le maualalo o le vevela o le substrate, o le ata e faia e le condensation.

Evaporation vevela (resistance evaporation) o se auala faʻapipiʻi faʻaaogaina e avea o se vaega o le PVD process (Fysical Vapor Deposition). O mea e fa'atupu ai le fa'alava mulimuli ane e fa'avevela i totonu o se potu vacuum seia o'o ina fa'asa. O le ausa o loʻo faʻapipiʻiina e le meafaitino e faʻafefe i luga o le meaʻai ma faʻapipiʻi ai le tulaga manaʻomia.

E iloa e a tatou vili fa'asao le fa'afefeteina o le vevela: O nei mea fa'avevela fa'ato'aga ma o latou mea fa'afefeteina maualuga tele o le a fa'apupuna ai so'o se u'amea. I le taimi lava e tasi, o lo latou maualuga maualuga o le corrosion resistance ma le mataʻina o mea mama e puipuia ai soʻo se faʻaleagaina o le substrate.