Volframov filament z ionsko implantacijo visoke čistosti
Volframova žica za ionsko implantacijo je ključna komponenta, ki se uporablja v strojih za ionsko implantacijo, predvsem v postopkih izdelave polprevodnikov. Ta vrsta volframove žice ima pomembno vlogo v polprevodniški opremi, njena kakovost in zmogljivost pa neposredno vplivata na učinkovitost procesnih linij IC. Stroj za ionsko implantacijo je ključna oprema v proizvodnem procesu VLSI (Very Large Scale Integrated Circuit) in vloge volframove žice kot vira ionov ni mogoče prezreti.
| Dimenzije | Kot vaše risbe |
| Kraj izvora | Luoyang, Henan |
| Blagovna znamka | FGD |
| Aplikacija | polprevodnik |
| Površina | Črna koža, alkalno pranje, sijaj avtomobila, polirano |
| Čistost | 99,95 % |
| Material | W1 |
| Gostota | 19,3 g/cm3 |
| Izvedbeni standardi | GB/T 4181-2017 |
| Tališče | 3400 ℃ |
| Vsebnost nečistoč | 0,005 % |
| Glavne komponente | W > 99,95 % |
| Vsebnost nečistoč ≤ | |
| Pb | 0,0005 |
| Fe | 0,0020 |
| S | 0,0050 |
| P | 0,0005 |
| C | 0,01 |
| Cr | 0,0010 |
| Al | 0,0015 |
| Cu | 0,0015 |
| K | 0,0080 |
| N | 0,003 |
| Sn | 0,0015 |
| Si | 0,0020 |
| Ca | 0,0015 |
| Na | 0,0020 |
| O | 0,008 |
| Ti | 0,0010 |
| Mg | 0,0010 |
1. Naša tovarna se nahaja v mestu Luoyang, provinca Henan. Luoyang je proizvodno območje za rudnike volframa in molibdena, zato imamo absolutne prednosti v kakovosti in ceni;
2. Naše podjetje ima tehnično osebje z več kot 15-letnimi izkušnjami in nudimo ciljne rešitve in predloge za potrebe vsake stranke.
3. Vsi naši izdelki so pred izvozom podvrženi strogi kontroli kakovosti.
4. Če prejmete blago z napako, nas lahko kontaktirate za vračilo.
1. Izbira surovin
(Izberite visokokakovostne surovine iz volframa, da zagotovite čistost in mehanske lastnosti končnega izdelka. )
2. Taljenje in čiščenje
(Izbrane surovine iz volframa se stopijo v nadzorovanem okolju, da se odstranijo nečistoče in doseže želena čistost.)
3. Vlečenje žice
(Očiščen volframov material se ekstrudira ali vleče skozi niz matric, da se doseže zahtevani premer žice in mehanske lastnosti.)
4. Žarjenje
(Vlečena volframova žica je žarjena, da se odpravi notranja napetost in izboljša njena duktilnost in zmogljivost obdelave )
5. Postopek ionske implantacije
V tem posebnem primeru je volframov filament sam lahko podvržen postopku ionske implantacije, pri katerem se ioni vbrizgajo na površino volframovega filamenta, da spremenijo njegove lastnosti in izboljšajo delovanje v ionskem implantatorju.)
V procesu proizvodnje polprevodniških čipov je stroj za ionsko implantacijo ena ključnih naprav, ki se uporablja za prenos diagrama vezja čipa iz maske na silicijeve rezine in doseganje ciljne funkcije čipa. Ta postopek vključuje korake, kot so kemično mehansko poliranje, nanašanje tankega filma, fotolitografija, jedkanje in ionska implantacija, med katerimi je ionska implantacija eno od pomembnih sredstev za izboljšanje učinkovitosti silicijevih rezin. Uporaba strojev za ionsko implantacijo učinkovito nadzoruje čas in stroške proizvodnje čipov, hkrati pa izboljšuje zmogljivost in zanesljivost čipov.
Da, volframovi filamenti so dovzetni za kontaminacijo med postopkom ionske implantacije. Do kontaminacije lahko pride zaradi različnih dejavnikov, kot so preostali plini, delci ali nečistoče, prisotni v komori za ionsko implantacijo. Ti onesnaževalci se lahko oprimejo površine volframovega filamenta, kar vpliva na njegovo čistost in potencialno vpliva na učinkovitost postopka ionske implantacije. Zato je vzdrževanje čistega in nadzorovanega okolja v komori za ionsko implantacijo ključnega pomena za zmanjšanje tveganja kontaminacije in zagotavljanje celovitosti volframovega filamenta. Redni postopki čiščenja in vzdrževanja lahko tudi pomagajo ublažiti možnost kontaminacije med ionsko implantacijo.
Volframova žica je znana po visokem tališču in odličnih mehanskih lastnostih, zaradi katerih je odporna na deformacije pri običajnih pogojih ionske implantacije. Vendar pa lahko toplota, ki nastane med bombardiranjem z visoko energijskimi ioni in implantacijo ionov, sčasoma povzroči izkrivljanje, zlasti če procesni parametri niso natančno nadzorovani.
Dejavniki, kot so intenzivnost in trajanje ionskega žarka ter temperatura in ravni napetosti, ki jih doživlja volframova žica, lahko prispevajo k možnosti deformacije. Poleg tega bodo vse nečistoče ali napake v volframovi žici povečale dovzetnost za deformacijo.
Za zmanjšanje tveganja deformacije je treba skrbno spremljati in nadzorovati procesne parametre, zagotoviti je treba čistost in kakovost volframovega filamenta ter izvajati ustrezne vzdrževalne in inšpekcijske protokole za opremo za ionsko implantacijo. Redno ocenjevanje stanja in delovanja volframove žice lahko pomaga prepoznati morebitne znake popačenja in po potrebi sprejeti korektivne ukrepe.
