Čína čistý 99,95% volfrámový cieľový volfrámový disk pre priemysel Výrobca a dodávateľ |Kovaný volfrám

čistý 99,95% volfrámový cieľový volfrámový kotúč pre priemysel

čistý 99,95 % volfrámový cieľový volfrámový disk pre priemysel Odporúčaný obrázok

Stručný opis:

Volfrámové terče a volfrámové disky sa bežne používajú v rôznych priemyselných aplikáciách, najmä v procesoch nanášania tenkých vrstiev a povlakov.Volfrám je známy svojou vysokou teplotou topenia, vynikajúcou tepelnou vodivosťou a odolnosťou proti korózii, čo z neho robí ideálny materiál pre takéto aplikácie.

Pošlite nám e-mail Stiahnuť ako PDF

Detail produktu

Štítky produktu

Čo je to volfrámový cieľ?

Volfrámové terče sú špecializovaný materiál používaný v procese fyzikálnej depozície pár (PVD) a bežne sa používajú na výrobu tenkých filmov pre rôzne priemyselné aplikácie.Volfrámové terče sa zvyčajne vyrábajú z vysoko čistého volfrámu a sú určené na nanášanie tenkých vrstiev na substráty v systémoch PVD.

V procese PVD sa na bombardovanie volfrámového cieľa používa vysokoenergetický zdroj, ako je elektrónový lúč alebo plazma, čo spôsobuje vyvrhnutie atómov z cieľa.Tieto vyvrhnuté atómy potom prechádzajú vákuovou komorou a ukladajú sa na povrch substrátu, pričom vytvárajú tenký film.

Volfrámové terče sú cenené pre svoj vysoký bod topenia, ktorý im umožňuje odolávať vysokým teplotám vznikajúcim počas PVD.Navyše, vynikajúca tepelná vodivosť a odolnosť voči korózii z volfrámu robí ideálny materiál pre PVD systémy.

Tenké filmy vyrábané pomocou volfrámových terčov majú širokú škálu aplikácií vrátane polovodičového priemyslu, optiky, elektroniky a solárnej energie.Vlastnosti filmu, ako je vodivosť, odrazivosť a tvrdosť, je možné prispôsobiť úpravou procesu nanášania, vďaka čomu sú volfrámové terče všestranným nástrojom na priemyselnú výrobu tenkých vrstiev.

Prečo sa volfrám používa ako cieľový materiál?

Volfrám sa používa ako cieľ v procese fyzikálnej depozície z pár (PVD) z niekoľkých dôvodov:

1. Vysoká teplota topenia: Volfrám má najvyššiu teplotu topenia spomedzi všetkých kovov, preto je vhodné odolať vysokým teplotám vznikajúcim počas procesu PVD.To umožňuje, aby volfrámový terč odolal tepelnému namáhaniu a zachoval si svoju štrukturálnu integritu počas nanášania.

2. Tepelná vodivosť: Volfrám má vynikajúcu tepelnú vodivosť a pomáha odvádzať teplo vznikajúce počas procesu PVD.Táto vlastnosť je rozhodujúca pre udržanie stability cieľa a zabezpečenie rovnomerného ukladania filmu.

3. Chemicky inertný: Volfrám má silnú odolnosť voči chemickým reakciám a korózii, vďaka čomu je ideálnym materiálom pre proces PVD.V procese PVD musí cieľový materiál zostať stabilný v prítomnosti reaktívnych plynov alebo vysokoenergetickej plazmy.

4. Kvalita filmu: Volfrámové terče môžu produkovať vysokokvalitné filmy s ideálnymi vlastnosťami, ako je vysoká hustota, rovnomernosť a priľnavosť k substrátom, vďaka čomu sú vhodné pre širokú škálu priemyselných aplikácií.

Celkovo možno povedať, že jedinečná kombinácia vlastností, ktoré volfrám vykazuje, vrátane vysokého bodu topenia, tepelnej vodivosti a chemickej stability, z neho robí vynikajúcu cieľovú voľbu v procese PVD, ktorá je schopná produkovať rôzne vysokovýkonné filmy.Priemyselné aplikácie.