ඉහළ ද්රවාංක, විශිෂ්ට තාප සන්නායකතාව සහ ඔක්සිකරණ ප්රතිරෝධය අවශ්ය වන ඉහළ උෂ්ණත්ව යෙදුම්වලදී Molybdenum-lanthanum මිශ්ර ලෝහ තාපන තීරු භාවිතා වේ. මිශ්‍ර ලෝහයේ ඇති ලැන්තනම් ඔක්සයිඩ් molybdenum මතුපිට ආරක්ෂිත තට්ටුවක් සාදමින් එහි ඉහළ උෂ්ණත්ව කාර්ය සාධනය වැඩි දියුණු කරයි.

 

molybdenum-lanthanum මිශ්‍ර ලෝහ තාපන තීරු සැකසීමේදී molybdenum කුඩු නිෂ්පාදනය කිරීම, ලැන්තනම් ඔක්සයිඩ් සමඟ මිශ්‍ර කිරීම, මිශ්‍රණය සංයුක්ත කිරීම සහ ඝන බිල්ට් සෑදීම සඳහා සින්ටර් කිරීම ඇතුළත් වේ. අවශ්ය මානයන් සහ ගුණාංග ලබා ගැනීම සඳහා හිස් තැන් පසුව උණුසුම් හා සීතල රෝල් කරනු ලැබේ. එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස ලැබෙන molybdenum-lanthanum මිශ්‍ර ලෝහ තාපන පටි රික්තක ඌෂ්මක, තාප පිරියම් කිරීමේ ක්‍රියාවලි සහ අනෙකුත් කාර්මික තාපන පද්ධති වැනි විවිධ අධි-උෂ්ණත්ව යෙදුම්වල භාවිතා කළ හැක.

 

මොලිබ්ඩිනම්-ලැන්තනම් මිශ්‍ර ලෝහ විදුලි තාපන තීරු ඒවායේ අද්විතීය ගුණාංග නිසා විවිධ අධික උෂ්ණත්ව පරිසරයන් සඳහා සුදුසු වේ. සමහර පොදු යෙදුම් ඇතුළත් වේ:

1. තාපන මූලද්‍රව්‍ය: මෙම මිශ්‍ර ලෝහය එහි ඉහළ උෂ්ණත්ව ශක්තිය සහ ඔක්සිකරණ ප්‍රතිරෝධය හේතුවෙන් ඉහළ උෂ්ණත්ව ඌෂ්මක, රික්තක ඌෂ්මක සහ අනෙකුත් කාර්මික තාපන පද්ධති සඳහා තාපන මූලද්‍රව්‍ය නිෂ්පාදනය කිරීමට යොදා ගනී.

2. තාප පිරියම් කිරීමේ ක්‍රියාවලිය: මොලිබ්ඩිනම්-ලැන්තනම් මිශ්‍ර ලෝහ තාපන පටිය ලෝහ, පිඟන් මැටි, සංයුක්ත ද්‍රව්‍ය සහ අනෙකුත් ද්‍රව්‍යවල තාප පිරියම් කිරීමේ ක්‍රියාවලියේදී භාවිතා වන අතර ඒ සඳහා ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී නිරවද්‍ය හා ඒකාකාර උණුසුම අවශ්‍ය වේ.

3. අභ්‍යවකාශ කර්මාන්තය: මෙම මිශ්‍ර ලෝහය රොකට් එන්ජින් සහ අනෙකුත් ප්‍රචාලන පද්ධති වැනි ඉහළ උෂ්ණත්වයන්ට නිරාවරණය වන කොටස් සඳහා අභ්‍යවකාශ යෙදුම්වල භාවිතා වේ.

4. ඉලෙක්ට්‍රොනික කර්මාන්තය: රික්ත තැන්පතු පද්ධතිවල තාපන මූලද්‍රව්‍ය, ඉසින ඉලක්ක ආදිය වැනි ඉහළ උෂ්ණත්ව ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංග නිෂ්පාදනය සඳහා Molybdenum-lanthanum මිශ්‍ර ලෝහ තාපන තීරු භාවිතා වේ.

5. වීදුරු සහ පිඟන් කර්මාන්තය: මෙම මිශ්‍ර ලෝහය වීදුරු උණු කිරීම සහ සෙරමික් සින්ටර් කිරීම වැනි යෙදුම් සඳහා වීදුරු සහ සෙරමික් කර්මාන්තයේ භාවිතා වේ, එහිදී ඉහළ උෂ්ණත්ව ස්ථායීතාවය සහ තාප කම්පන ප්‍රතිරෝධය ඉතා වැදගත් වේ.

සමස්තයක් වශයෙන්, molybdenum-lanthanum මිශ්‍ර ලෝහ තාපන පටි කාර්මික සහ තාක්ෂණික යෙදුම්වල බහුලව භාවිතා වන අතර ඒවා විශ්වසනීයත්වය, ඉහළ උෂ්ණත්ව කාර්ය සාධනය සහ ඔක්සිකරණ ප්‍රතිරෝධය අවශ්‍ය වේ.