ٽينٽيلم اسپٽرنگ جا مقصد اسپٽر جمع ڪرڻ جي عمل ۾ استعمال ٿيندا آهن، مختلف مواد جي پتلي فلمن کي ذخيرو ڪرڻ جو هڪ طريقو هڪ ذيلي ذخيرو تي. tantalum sputtering ٽارگيٽ جي صورت ۾، اهي tantalum پتلي فلمن کي مختلف سطحن تي جمع ڪرڻ لاء استعمال ڪيا ويا آهن، جهڙوڪ سيمي ڪنڊڪٽر ويفرز، ڊسپلي ڪوٽنگ، ۽ ٻيا اليڪٽرانڪ اجزاء. اسپٽر جمع ڪرڻ جي عمل دوران، ٽينٽيلم اسپٽرنگ ٽارگيٽ تي تيز توانائي آئنز پاران بمباري ڪئي ويندي آهي، جنهن جي ڪري ٽانٽيلم ايٽمس ٽارگيٽ کان ٻاهر نڪرندا آهن ۽ هڪ پتلي فلم جي صورت ۾ سبسٽريٽ تي جمع ڪيا ويندا آهن. اهو عمل فلم جي ٿولهه ۽ هڪجهڙائي جي درست ڪنٽرول جي اجازت ڏئي ٿو، اهو اليڪٽرانڪ ڊوائيسز ۽ ٻين اعلي ٽيڪنالاجي شين جي پيداوار لاء هڪ اهم طريقو آهي. Tantalum sputtering ٽارگيٽ انهن جي اعلي پگھلڻ واري نقطي، ڪيميائي جڙت، ۽ مختلف قسم جي ذيلي مواد سان مطابقت لاء قابل قدر آهن، انهن کي پائيدار ۽ اعلي معيار جي فلمن جي ايپليڪيشنن لاء مثالي بڻائي ٿو. اهي مقصد عام طور تي ڪيپيسٽرز، انٽيگريڊ سرڪٽس ۽ ٻين اليڪٽرانڪ ڊوائيسز جي پيداوار ۾ استعمال ٿيندا آهن.