Вольфрамовая нить высокой чистоты для ионной имплантации
Вольфрамовая проволока для ионной имплантации является ключевым компонентом, используемым в машинах ионной имплантации, в основном в процессах производства полупроводников. Этот тип вольфрамовой проволоки играет важную роль в полупроводниковом оборудовании, а ее качество и характеристики напрямую влияют на эффективность технологических линий по производству ИС. Машина ионной имплантации является ключевым оборудованием в процессе производства СБИС (сверхбольших интегральных схем), и роль вольфрамовой проволоки как источника ионов нельзя игнорировать.
Размеры | Как твои рисунки |
Место происхождения | Лоян, Хэнань |
Название бренда | ФГД |
Приложение | полупроводник |
Поверхность | Черная кожа, щелочная мойка, блеск автомобиля, полировка |
Чистота | 99,95% |
Материал | W1 |
Плотность | 19,3 г/см3 |
Стандарты исполнения | ГБ/Т 4181-2017 |
Температура плавления | 3400℃ |
Содержание примесей | 0,005% |
Основные компоненты | Вт>99,95% |
Содержание примесей≤ | |
Pb | 0,0005 |
Fe | 0,0020 |
S | 0,0050 |
P | 0,0005 |
C | 0,01 |
Cr | 0,0010 |
Al | 0,0015 |
Cu | 0,0015 |
K | 0,0080 |
N | 0,003 |
Sn | 0,0015 |
Si | 0,0020 |
Ca | 0,0015 |
Na | 0,0020 |
O | 0,008 |
Ti | 0,0010 |
Mg | 0,0010 |
1. Наша фабрика расположена в городе Лоян, провинция Хэнань. Лоян — это район производства вольфрамовых и молибденовых рудников, поэтому мы имеем абсолютные преимущества по качеству и цене;
2. В нашей компании работает технический персонал с более чем 15-летним опытом, и мы предоставляем целевые решения и предложения для нужд каждого клиента.
3. Вся наша продукция проходит строгий контроль качества перед отправкой на экспорт.
4. Если вы получили дефектный товар, вы можете связаться с нами для возврата денег.
1. Выбор сырья
(Выбирайте высококачественное вольфрамовое сырье, чтобы обеспечить чистоту и механические свойства конечного продукта. )
2. Плавление и очистка
(Отобранное вольфрамовое сырье плавится в контролируемой среде для удаления примесей и достижения желаемой чистоты.)
3. Чертеж проволоки
(Очищенный вольфрамовый материал экструдируется или протягивается через ряд матриц для достижения необходимого диаметра проволоки и механических свойств.)
4. Отжиг
(Тянутая вольфрамовая проволока подвергается отжигу для устранения внутренних напряжений и улучшения ее пластичности и производительности обработки )
5. Процесс ионной имплантации
В этом конкретном случае сама вольфрамовая нить может подвергнуться процессу ионной имплантации, при котором ионы впрыскиваются в поверхность вольфрамовой нити, чтобы изменить ее свойства и повысить производительность устройства ионной имплантации.)
В процессе производства полупроводниковых чипов машина ионной имплантации является одним из ключевых устройств, используемых для переноса принципиальной схемы чипа с маски на кремниевую пластину и достижения целевой функции чипа. Этот процесс включает в себя такие этапы, как химико-механическая полировка, осаждение тонких пленок, фотолитография, травление и ионная имплантация, среди которых ионная имплантация является одним из важных средств улучшения характеристик кремниевых пластин. Применение машин ионной имплантации эффективно контролирует время и стоимость производства чипов, одновременно повышая производительность и надежность чипов.
Да, вольфрамовые нити подвержены загрязнению в процессе ионной имплантации. Загрязнение может произойти из-за множества факторов, таких как остаточные газы, частицы или примеси, присутствующие в камере ионной имплантации. Эти загрязнения могут прилипать к поверхности вольфрамовой нити, влияя на ее чистоту и потенциально влияя на эффективность процесса ионной имплантации. Поэтому поддержание чистой и контролируемой среды внутри камеры ионной имплантации имеет решающее значение для минимизации риска загрязнения и обеспечения целостности вольфрамовой нити. Регулярные процедуры очистки и технического обслуживания также могут помочь снизить вероятность загрязнения во время ионной имплантации.
Вольфрамовая проволока известна своей высокой температурой плавления и превосходными механическими свойствами, которые делают ее устойчивой к деформации при нормальных условиях ионной имплантации. Однако тепло, выделяемое во время бомбардировки высокоэнергетическими ионами и ионной имплантации, может со временем вызвать искажения, особенно если параметры процесса не контролируются тщательно.
Такие факторы, как интенсивность и продолжительность ионного луча, а также температура и уровни напряжения, которым подвергается вольфрамовая проволока, могут способствовать потенциальной деформации. Кроме того, любые примеси или дефекты вольфрамовой проволоки усиливают склонность к деформации.
Чтобы снизить риск деформации, необходимо тщательно контролировать и контролировать параметры процесса, обеспечивать чистоту и качество вольфрамовой нити, а также применять соответствующие протоколы технического обслуживания и проверки оборудования для ионной имплантации. Регулярная оценка состояния и характеристик вольфрамовой проволоки может помочь выявить любые признаки искажения и при необходимости принять корректирующие меры.