China pur 99,95% tungsten țintă disc tungsten pentru industrie Producător și furnizor |Tungsten forjat

disc de tungsten țintă de tungsten pur 99,95% pentru industrie

Scurta descriere:

Țintele de tungsten și discurile de tungsten sunt utilizate în mod obișnuit într-o varietate de aplicații industriale, în special în procesele de depunere și acoperire a filmelor subțiri.Tungstenul este cunoscut pentru punctul său de topire ridicat, conductivitate termică excelentă și rezistență la coroziune, făcându-l un material ideal pentru astfel de aplicații.

Trimiteți-ne un e-mail Descărcați ca PDF

Detaliile produsului

Etichete de produs

Ce este o țintă de wolfram?

Țintele de tungsten sunt un material specializat utilizat în procesul de depunere fizică în vapori (PVD) și sunt utilizate în mod obișnuit pentru a produce pelicule subțiri pentru o varietate de aplicații industriale.Țintele de tungsten sunt de obicei fabricate din tungsten de înaltă puritate și sunt proiectate pentru depunerea de filme subțiri pe substraturi în sistemele PVD.

În procesul PVD, o sursă de înaltă energie, cum ar fi un fascicul de electroni sau plasmă, este folosită pentru a bombarda o țintă de wolfram, determinând ejectarea atomilor din țintă.Acești atomi ejectați trec apoi printr-o cameră cu vid și sunt depuși pe suprafața unui substrat, formând o peliculă subțire.

Țintele de tungsten sunt apreciate pentru punctul lor de topire ridicat, ceea ce le permite să reziste la temperaturile ridicate generate în timpul PVD.În plus, conductivitatea termică excelentă și rezistența la coroziune a wolframului îl fac un material ideal pentru sistemele PVD.

Filmele subțiri produse folosind ținte de tungsten au o gamă largă de aplicații, inclusiv industria semiconductoarelor, optică, electronică și energie solară.Proprietățile filmului, cum ar fi conductivitatea, reflectivitatea și duritatea, pot fi personalizate prin ajustarea procesului de depunere, făcând țintele de tungsten un instrument versatil pentru producția industrială de pelicule subțiri.

De ce este folosit wolfram ca material țintă?

Tungstenul este utilizat ca țintă în procesul de depunere fizică în vapori (PVD) din mai multe motive:

1. Punct de topire ridicat: Tungstenul are cel mai înalt punct de topire dintre toate metalele, astfel încât este potrivit pentru a rezista la temperaturile ridicate generate în timpul procesului PVD.Acest lucru permite țintei de tungsten să reziste la stresul termic și să-și mențină integritatea structurală în timpul depunerii.

2. Conductivitate termică: Tungstenul are o conductivitate termică excelentă și ajută la disiparea căldurii generate în timpul procesului PVD.Această proprietate este esențială pentru menținerea stabilității țintei și pentru asigurarea unei depuneri uniforme a filmului.

3. Inert chimic: Tungstenul are o rezistență puternică la reacții chimice și la coroziune, făcându-l un material ideal pentru procesul PVD.În procesul PVD, materialul țintă trebuie să rămână stabil în prezența gazelor reactive sau a plasmei de înaltă energie.

4. Calitatea filmului: Țintele de tungsten pot produce filme de înaltă calitate, cu proprietăți ideale, cum ar fi densitate mare, uniformitate și aderență la substraturi, făcându-le potrivite pentru o gamă largă de aplicații industriale.

În general, combinația unică de proprietăți prezentate de wolfram, inclusiv punctul de topire ridicat, conductivitatea termică și stabilitatea chimică, îl fac o alegere țintă excelentă în procesul PVD, capabilă să producă o varietate de filme de înaltă performanță.Aplicatii industriale.