disco de tungstênio alvo de tungstênio puro 99,95% para a indústria

Breve descrição:

Alvos e discos de tungstênio são comumente usados ​​em uma variedade de aplicações industriais, especialmente em processos de deposição e revestimento de filmes finos. O tungstênio é conhecido por seu alto ponto de fusão, excelente condutividade térmica e resistência à corrosão, tornando-o um material ideal para tais aplicações.


Detalhes do produto

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Descrições do produto

O material alvo de tungstênio é um produto feito de pó de tungstênio puro e tem uma aparência branco prateado. É popular em muitos campos devido às suas excelentes propriedades físicas e químicas. A pureza dos materiais alvo de tungstênio geralmente pode atingir 99,95% ou mais e possuem características como baixa resistência, alto ponto de fusão, baixo coeficiente de expansão, baixa pressão de vapor, não toxicidade e não radioatividade. Além disso, os materiais alvo de tungstênio também têm boa estabilidade termoquímica e não são propensos a expansão ou contração de volume, reações químicas com outras substâncias e outros fenômenos.

Especificações do produto

 

Dimensões Como sua exigência
Local de Origem Luoyang,Henan
Marca FGD
Aplicativo Médico, Indústria, semicondutores
Forma Redondo
Superfície Polido
Pureza 99,95%
Nota W1
Densidade 19,3g/cm3
Ponto de fusão 3420°C
Ponto de ebulição 5555°C
alvo de tungstênio (2)

Composição Química

Componentes principais

W>99,95%

Conteúdo de impurezas≤

Pb

0,0005

Fe

0,0020

S

0,0050

P

0,0005

C

0,01

Cr

0,0010

Al

0,0015

Cu

0,0015

K

0,0080

N

0,003

Sn

0,0015

Si

0,0020

Ca

0,0015

Na

0,0020

O

0,008

Ti

0,0010

Mg

0,0010

Especificações comuns

Diâmetro

φ25,4mm φ50mm φ50,8mm φ60 mm φ76,2 mm φ80,0mm φ101,6mm φ100 mm
Grossura 3mm 4mm 5mm 6mm 6h35    

Por que nos escolher

1. Nossa fábrica está localizada na cidade de Luoyang, província de Henan. Luoyang é uma área de produção de minas de tungstênio e molibdênio, por isso temos vantagens absolutas em qualidade e preço;

2. Nossa empresa conta com pessoal técnico com mais de 15 anos de experiência, e oferecemos soluções e sugestões direcionadas às necessidades de cada cliente.

3. Todos os nossos produtos passam por rigorosa inspeção de qualidade antes de serem exportados.

4. Se você receber produtos com defeito, entre em contato conosco para obter um reembolso.

alvo de tungstênio (3)

Fluxo de Produção

1.Método de metalurgia do pó

(Pressione o pó de tungstênio na forma e depois sinterize-o em alta temperatura em uma atmosfera de hidrogênio)

2. Preparação de materiais alvo de pulverização catódica

(Deposição de material de tungstênio em um substrato para formar uma película fina)

3. prensagem isostática a quente

(Tratamento de densificação de material de tungstênio aplicando simultaneamente alta temperatura e alta pressão)

4. Método de fusão

(Use alta temperatura para derreter completamente o tungstênio e, em seguida, faça os materiais alvo por meio de fundição ou outros processos de formação)

5. Deposição química de vapor

(Método de decomposição do precursor gasoso em alta temperatura e deposição de tungstênio no substrato)

Aplicativos

Tecnologia de revestimento de película fina: Os alvos de tungstênio também são amplamente utilizados em tecnologias de revestimento de película fina, como deposição física de vapor (PVD) e deposição química de vapor (CVD). No processo PVD, o alvo de tungstênio é bombardeado por íons de alta energia, evaporados e depositados na superfície do wafer, formando um denso filme de tungstênio. Este filme possui dureza e resistência ao desgaste extremamente altas, o que pode efetivamente melhorar a resistência mecânica e a durabilidade dos dispositivos semicondutores. No processo CVD, o material alvo de tungstênio é depositado na superfície do wafer por meio de reação química em alta temperatura para formar um revestimento uniforme, que é particularmente adequado para uso em dispositivos semicondutores de alta potência e alta frequência.

alvo de tungstênio

Certificados

1º dia
2º dia

Diagrama de envio

32
22
alvo de tungstênio (5)
23

Perguntas frequentes

Quais são as principais vantagens dos materiais alvo de tungstênio?

O molibdênio é frequentemente usado como material alvo em mamografia devido às suas propriedades favoráveis ​​para imagens do tecido mamário. O molibdênio tem um número atômico relativamente baixo, o que significa que os raios X que ele produz são ideais para imagens de tecidos moles, como a mama. O molibdênio produz raios X característicos em níveis de energia mais baixos, tornando-os ideais para observar diferenças sutis na densidade do tecido mamário.

Além disso, o molibdênio possui boas propriedades de condutividade térmica, o que é importante em equipamentos de mamografia onde são comuns exposições repetidas aos raios X. A capacidade de dissipar o calor de forma eficaz ajuda a manter a estabilidade e o desempenho dos tubos de raios X durante longos períodos de uso.

No geral, o uso de molibdênio como material alvo em mamografia ajuda a otimizar a qualidade da imagem mamária, fornecendo propriedades de raios X apropriadas para esta aplicação específica.

Quais são as desvantagens dos materiais alvo de tungstênio?

Alta fragilidade: Os materiais alvo de tungstênio têm alta fragilidade e são suscetíveis a impactos e vibrações, o que pode causar danos.
Alto custo de fabricação: O custo de fabricação do material alvo de tungstênio é relativamente alto porque seu processo de produção requer uma série de procedimentos complexos e equipamentos de processamento de alta precisão.
Dificuldade de soldagem: A soldagem de materiais alvo de tungstênio é relativamente difícil e requer processos e técnicas especiais de soldagem para garantir a integridade de sua estrutura e desempenho.
Alto coeficiente de expansão térmica: O material alvo de tungstênio possui um alto coeficiente de expansão térmica, portanto, quando usado em ambientes de alta temperatura, deve-se prestar atenção às mudanças de tamanho e à influência do estresse térmico.


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