China disco de tungstênio alvo de tungstênio puro 99,95% para a indústria fabricante e fornecedor |Tungstênio Forjado

disco de tungstênio alvo de tungstênio puro 99,95% para a indústria

Pequena descrição:

Alvos e discos de tungstênio são comumente usados em uma variedade de aplicações industriais, especialmente em processos de deposição e revestimento de filmes finos.O tungstênio é conhecido por seu alto ponto de fusão, excelente condutividade térmica e resistência à corrosão, tornando-o um material ideal para tais aplicações.

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O que é um alvo de tungstênio?

Os alvos de tungstênio são um material especializado usado no processo de deposição física de vapor (PVD) e são comumente usados para produzir filmes finos para uma variedade de aplicações industriais.Os alvos de tungstênio são normalmente feitos de tungstênio de alta pureza e são projetados para depositar filmes finos em substratos em sistemas PVD.

No processo PVD, uma fonte de alta energia, como um feixe de elétrons ou plasma, é usada para bombardear um alvo de tungstênio, fazendo com que átomos sejam ejetados do alvo.Esses átomos ejetados passam então por uma câmara de vácuo e são depositados na superfície de um substrato, formando uma película fina.

Os alvos de tungstênio são valorizados por seu alto ponto de fusão, o que lhes permite suportar as altas temperaturas geradas durante o PVD.Além disso, a excelente condutividade térmica e resistência à corrosão do tungstênio o tornam um material ideal para sistemas PVD.

Os filmes finos produzidos com alvos de tungstênio têm uma ampla gama de aplicações, incluindo a indústria de semicondutores, óptica, eletrônica e energia solar.As propriedades do filme, como condutividade, refletividade e dureza, podem ser personalizadas ajustando o processo de deposição, tornando os alvos de tungstênio uma ferramenta versátil para a produção industrial de filmes finos.

Por que o tungstênio é usado como material alvo?

O tungstênio é usado como alvo no processo de deposição física de vapor (PVD) por vários motivos:

1. Alto ponto de fusão: O tungstênio tem o ponto de fusão mais alto entre todos os metais, por isso é adequado para suportar as altas temperaturas geradas durante o processo PVD.Isto permite que o alvo de tungstênio resista ao estresse térmico e mantenha sua integridade estrutural durante a deposição.

2. Condutividade térmica: O tungstênio possui excelente condutividade térmica e ajuda a dissipar o calor gerado durante o processo PVD.Esta propriedade é crítica para manter a estabilidade do alvo e garantir a deposição uniforme do filme.

3. Quimicamente inerte: O tungstênio possui forte resistência a reações químicas e corrosão, tornando-o um material ideal para o processo PVD.No processo PVD, o material alvo deve permanecer estável na presença de gases reativos ou plasma de alta energia.

4. Qualidade do filme: Os alvos de tungstênio podem produzir filmes de alta qualidade com propriedades ideais, como alta densidade, uniformidade e adesão a substratos, tornando-os adequados para uma ampla gama de aplicações industriais.

No geral, a combinação única de propriedades exibidas pelo tungstênio, incluindo alto ponto de fusão, condutividade térmica e estabilidade química, fazem dele uma excelente escolha de alvo no processo PVD, capaz de produzir uma variedade de filmes de alto desempenho.Aplicações industriais.