Material alvo de molibdênio amplamente utilizado no campo de semicondutores

Breve descrição:

Fabricação de semicondutores: Na indústria de semicondutores, os alvos de molibdênio são comumente usados ​​para fabricar filmes finos por meio de deposição física de vapor (PVD) e outras tecnologias como camadas condutoras ou de barreira para circuitos.


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O método de produção do material alvo de molibdênio

1. A pureza do pó de molibdênio é maior ou igual a 99,95%. O tratamento de densificação do pó de molibdênio foi realizado por meio do processo de sinterização por prensagem a quente, e o pó de molibdênio foi colocado no molde; Depois de colocar o molde no forno de sinterização de prensagem a quente, aspire o forno de sinterização de prensagem a quente; Ajustar a temperatura do forno de sinterização por prensagem a quente para 1200-1500 ℃, com pressão superior a 20MPa, e manter o isolamento e a pressão por 2-5 horas; Formando o primeiro tarugo alvo de molibdênio;

2. Realize o tratamento de laminação a quente no primeiro tarugo alvo de molibdênio, aqueça o primeiro tarugo alvo de molibdênio a 1200-1500 ℃ e, em seguida, execute o tratamento de laminação para formar o segundo tarugo alvo de molibdênio;

3. Após o tratamento de laminação a quente, o segundo material alvo de molibdênio é recozido ajustando a temperatura para 800-1200 ℃ e mantendo-o por 2-5 horas para formar um molibdêniodenum material alvo.

O uso deMaterial alvo de molibdênio

Os alvos de molibdênio podem formar filmes finos em vários substratos e são amplamente utilizados em componentes e produtos eletrônicos.

Desempenho de materiais alvo pulverizados com molibdênio

O desempenho do material alvo de pulverização catódica de molibdênio é o mesmo de seu material de origem (molibdênio puro ou liga de molibdênio). O molibdênio é um elemento metálico usado principalmente para aço. Depois que o óxido de molibdênio industrial é prensado, a maior parte dele é usada diretamente na fabricação de aço ou ferro fundido. Uma pequena quantidade de molibdênio é fundida em ferro molibdênio ou folha de molibdênio e depois usada na fabricação de aço. Pode melhorar a resistência, dureza, soldabilidade, tenacidade, bem como alta temperatura e resistência à corrosão das ligas.

 

Aplicação de materiais alvo de pulverização catódica de molibdênio em tela plana

Na indústria eletrônica, a aplicação de alvos de pulverização catódica de molibdênio concentra-se principalmente em monitores de tela plana, eletrodos de células solares de película fina e materiais de fiação, bem como materiais de camada de barreira semicondutora. Esses materiais são baseados em molibdênio de alto ponto de fusão, alta condutividade e baixa impedância específica, que possui boa resistência à corrosão e desempenho ambiental. O molibdênio tem as vantagens de apenas metade da impedância específica e da tensão do filme do cromo e não apresenta problemas de poluição ambiental, o que o torna um dos materiais preferidos para alvos de pulverização catódica em monitores de tela plana. Além disso, adicionar elementos de molibdênio aos componentes do LCD pode melhorar muito o brilho, o contraste, a cor e a vida útil do LCD.

 

Aplicação de materiais alvo de pulverização catódica de molibdênio em células solares fotovoltaicas de película fina

CIGS é um tipo importante de célula solar usada para converter a luz solar em eletricidade. CIGS é composto por quatro elementos: cobre (Cu), índio (In), gálio (Ga) e selênio (Se). Seu nome completo é célula solar de película fina de cobre, índio, gálio e selênio. CIGS tem as vantagens de forte capacidade de absorção de luz, boa estabilidade de geração de energia, alta eficiência de conversão, longo tempo de geração de energia durante o dia, grande capacidade de geração de energia, baixo custo de produção e curto período de recuperação de energia

 

Os alvos de molibdênio são pulverizados principalmente para formar a camada de eletrodo das baterias de película fina CIGS. O molibdênio está localizado na parte inferior da célula solar. Como contato posterior das células solares, desempenha um papel importante na nucleação, crescimento e morfologia dos cristais de película fina CIGS.

 

Alvo de pulverização catódica de molibdênio para tela sensível ao toque

Alvos de molibdênio nióbio (MoNb) são usados ​​como camadas condutoras, de cobertura e de bloqueio em televisores de alta definição, tablets, smartphones e outros dispositivos móveis por meio de revestimento catódico.

Parâmetro

Nome do produto Material alvo de molibdênio
Material Mo1
Especificação Personalizado
Superfície Pele negra, lavada com álcali, polida.
Técnica Processo de sinterização, usinagem
Ponto de fusão 2600 ℃
Densidade 10,2g/cm3

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