د ټنټلم سپټرینګ هدفونه د سپټټر ډیپوزیشن پروسې کې کارول کیږي ، په سبسټریټ کې د مختلف موادو پتلي فلمونو زیرمه کولو میتود. د ټنټلم سپټرینګ اهدافو په حالت کې ، دوی په مختلف سطحو کې د ټنټلم پتلي فلمونو زیرمه کولو لپاره کارول کیږي ، لکه د سیمی کنډکټر ویفرونه ، د ښودلو کوټینګونه ، او نور بریښنایی اجزا. د سپوټر د ذخیرې کولو پروسې په جریان کې، د ټنټلم سپټرینګ هدف د لوړ انرژی ایونونو لخوا بمبار کیږي، چې د ټنټلم اتومونه د هدف څخه ایستل کیږي او د پتلي فلم په بڼه په سبسټریټ کې زیرمه کیږي. پروسه د فلم ضخامت او یونیفورم دقیق کنټرول ته اجازه ورکوي ، دا د بریښنایی وسیلو او نورو لوړ تخنیکي محصولاتو تولید لپاره یو مهم میتود جوړوي. د ټنټلم سپټرینګ هدفونه د دوی د لوړ خټکي نقطې ، کیمیاوي بې ثباتۍ ، او د مختلف سبسټریټ موادو سره مطابقت لپاره ارزښت لري ، دا د پایښت لرونکي او لوړ کیفیت فلمونو ته اړتیا لرونکي غوښتنلیکونو لپاره مثالی کوي. دا هدفونه عموما د کیپسیټرونو ، مدغم سرکیټونو او نورو بریښنایی وسیلو په تولید کې کارول کیږي.