د NUST MISIS د ساینس پوهانو یوې ډلې د اوسني پیژندل شوي مرکبونو په مینځ کې ترټولو لوړ خټکي نقطه سره د سیرامیک مواد رامینځته کړل. د فزیکي، میخانیکي او حرارتي ځانګړتیاوو د ځانګړي ترکیب له امله، دا مواد د الوتکو په ډیرو تودوخې بار شوي برخو کې د کارولو لپاره ژمن دي، لکه د ناک فیرنګ، جیټ انجنونه او د وزرونو تیزې مخکینۍ څنډې چې د 2000 درجو څخه پورته تودوخې کې فعالیت کوي. پایلې په سیرامیک انټرنیشنل کې خپرې شوې.

ډیری مخکښ فضایی ادارې (NASA، ESA، او همدارنګه د جاپان ادارې،چیناو هند) په فعاله توګه د بیا کارونې وړ فضایی الوتکې رامینځته کوي ، کوم چې به مدار ته د خلکو او کارګو تحویلولو لګښت د پام وړ کم کړي ، او همدارنګه د الوتنو ترمینځ وخت وقفې کمې کړي.

"اوس مهال، د داسې وسایلو په پراختیا کې د پام وړ پایلې ترلاسه شوي. د مثال په توګه، د وزرونو د مخکینۍ څنډې د ګردي وړانګو څو سانتي مترو ته کمول د لفټ او چلولو وړتیا کې د پام وړ زیاتوالي لامل کیږي، او همدارنګه د ایروډینامیک ډریګ کمول. په هرصورت، کله چې د فضا څخه وځي او بیا داخل شي، د فضايي الوتکې د وزرونو په سطحه، د 2000 درجو سانتي ګراد د تودوخې درجه لیدل کیدی شي، په ډیره څنډه کې 4000 درجو ته رسیږي. له همدې امله، کله چې دا ډول الوتکو ته راځي، د نوو موادو د جوړولو او پراختیا سره تړلې پوښتنه شتون لري چې کولی شي په دومره لوړه تودوخه کې کار وکړي، "د ساختماني سیرامیک موادو لپاره د NUST MISIS مرکز مشر، دیمتري موسکوفسخ وايي.

د وروستیو پرمختګونو په جریان کې، د ساینس پوهانو موخه دا وه چې د لوړ خټکي نقطې او لوړ میخانیکي ملکیتونو سره یو مواد جوړ کړي. د هافنيوم کاربن نايتروجن درې ګوني سيسټم، هافنيوم کاربنيټرايډ (Hf-CN) غوره شو، لکه څنګه چې د براون پوهنتون (US) پوهانو مخکې وړاندوينه کړې وه چې هافنيوم کاربن نايتروجن به لوړ حرارتي چالکتيا ولري او د اکسیډیشن په وړاندې مقاومت ولري، او همدارنګه تر ټولو لوړ خټکي. د ټولو پیژندل شوي مرکبونو ترمنځ نقطه (تقریبا 4200 درجې C).

د لوړ تودوخې ترکیب د ځان تبلیغ کولو میتود په کارولو سره، د NUSTMISIS ساینس پوهانو HfC0.5N0.35، (هافنیم کاربونیتراید) د تیوریکي جوړښت سره نږدې ترلاسه کړ، د 21.3 GPa لوړ سختۍ سره، کوم چې حتی د نوي ژمنو موادو څخه لوړ دی، لکه ZrB2/SiC (20.9 GPa) او HfB2/SiC/TaSi2 (18.1 GPa).

"دا سخته ده چې د موادو د خټکي نقطه اندازه کړئ کله چې د 4000 درجو ° څخه ډیر وي. له همدې امله، موږ پریکړه وکړه چې د ترکیب شوي مرکب او اصلي اتل، هافنیم کاربایډ د خټکي تودوخې پرتله کړو. د دې کولو لپاره، موږ د کمپرس شوي HFC او HfCN نمونې په ګرافیټ پلیټ کې د ډمبل په څیر ځای په ځای کړې، او د تودوخې له ضایع کیدو څخه د مخنیوي لپاره یې پورتنۍ برخه د ورته پلیټ سره پوښله، "ویرونیکا بوینویچ، د NUST MISIS د فراغت زده کونکي وايي.

بیا، دوی دا د بیټرۍ په کارولو سره وصل کړلmolybdenum electrodes. ټولې ازموینې په ژوره توګه ترسره شوېخلا. څرنګه چې د ګرافیت پلیټونو کراس برخه توپیر لري، د تودوخې اعظمي حد په خورا تنګ برخه کې رسیدلی. د نوي موادو، کاربونیتراید، او هافنیم کاربایډ د یوځل تودوخې پایلې ښودلې چې کاربونیتراید د هافنیم کاربایډ په پرتله د خټکي لوړ نقطه لري.

په هرصورت، په اوس وخت کې، د نوي موادو ځانګړي خټکي نقطه د 4000 درجو C څخه پورته ده، او په لابراتوار کې دقیقا نه شي ټاکل کیدی. په راتلونکي کې، ټیم پالن لري چې د لیزر یا برقی مقاومت په کارولو سره د لوړې تودوخې پیرومیټري په واسطه د خټکي تودوخې اندازه کولو تجربې ترسره کړي. دوی دا پلان هم لري چې په هایپرسونیک شرایطو کې د پایله شوي هافینیم کاربونیتریډ فعالیت مطالعه کړي ، کوم چې به د فضا صنعت کې د نورو غوښتنلیک لپاره اړوند وي.