Chiny Cel napylania tytanu o wysokiej czystości do powlekania próżniowego Producent i dostawca |Kuty wolfram

Tarcza do napylania tytanu o wysokiej czystości do powlekania próżniowego

Krótki opis:

Tarcze do napylania tytanu wykorzystuje się w procesie fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD) w celu osadzania cienkich warstw tytanu na podłożach.Tarcze te, wykonane z tytanu o wysokiej czystości, są wykorzystywane w takich zastosowaniach, jak produkcja półprzewodników, osadzanie cienkowarstwowych powłok elektronicznych i optycznych oraz inżynieria powierzchni.

Wyślij e-mail do nas Pobierz w formacie PDF

Szczegóły produktu

Tagi produktów

Co to jest materiał docelowy rozpylany?

Cele napylania to materiały o wysokiej czystości stosowane w procesach fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD), w szczególności w technologii napylania katodowego.Materiały te są wykorzystywane do tworzenia cienkich warstw na podłożach w różnych gałęziach przemysłu, w tym w produkcji półprzewodników, powłokach optycznych i osadzaniu cienkich warstw w urządzeniach elektronicznych.

Materiały docelowe do napylania mogą być wykonane z różnych pierwiastków i związków, w tym metali, stopów, tlenków i azotków.Wybór materiału docelowego do napylania zależy od konkretnych właściwości wymaganych dla cienkowarstwowej powłoki, takich jak przewodność elektryczna, właściwości optyczne, twardość i odporność chemiczna.

Typowe cele rozpylania obejmują metale, takie jak tytan, aluminium i miedź, a także związki, takie jak tlenek indu i cyny (ITO) i różne tlenki metali.Wybór odpowiedniego materiału docelowego do napylania ma kluczowe znaczenie dla osiągnięcia pożądanych właściwości i wydajności powłok cienkowarstwowych.

Jakiego rozmiaru jest obiekt rozpylający?

Cele do napylania są dostępne w różnych rozmiarach, w zależności od konkretnych wymagań procesu osadzania cienkowarstwowego i sprzętu do napylania.Rozmiar celu rozpylającego może mieć średnicę od kilku centymetrów do kilkudziesięciu centymetrów, a grubość może się również różnić.

Wielkość tarczy do napylania jest określana przez takie czynniki, jak wielkość powlekanego podłoża, konfiguracja układu napylania oraz pożądana szybkość i jednorodność osadzania.Dodatkowo na wielkość tarczy do napylania mogą mieć wpływ specyficzne wymagania aplikacji cienkowarstwowej, takie jak obszar do pokrycia i ogólne parametry procesu.

Ostatecznie rozmiar tarczy napylającej dobiera się tak, aby zapewnić wydajne i równomierne osadzanie folii na podłożu, spełniając specyficzne potrzeby procesu powlekania cienkowarstwowego w produkcji półprzewodników, powłok optycznych i innych powiązanych zastosowaniach.

Jak mogę zwiększyć szybkość rozpylania?

Istnieje kilka sposobów zwiększenia szybkości napylania w procesie napylania:

1. Optymalizacja mocy i ciśnienia: Dostosowanie parametrów mocy i ciśnienia w systemie napylania może mieć wpływ na szybkość napylania.Zwiększenie mocy i optymalizacja warunków ciśnienia może zwiększyć szybkość rozpylania, co prowadzi do szybszego osadzania cienkiej warstwy.

2. Materiał tarczy i geometria: Stosowanie tarcz napylających o zoptymalizowanym składzie materiału i geometrii może poprawić szybkość napylania.Wysokiej jakości, dobrze zaprojektowane tarcze do napylania mogą zwiększyć wydajność napylania i prowadzić do wyższych szybkości osadzania.

3. Przygotowanie powierzchni docelowej: Właściwe czyszczenie i kondycjonowanie powierzchni docelowej do napylania może przyczynić się do zwiększenia szybkości napylania.Zapewnienie, że powierzchnia docelowa jest wolna od zanieczyszczeń i tlenków, może poprawić skuteczność rozpylania.

4. Temperatura podłoża: Kontrolowanie temperatury podłoża może mieć wpływ na szybkość rozpylania.W niektórych przypadkach podniesienie temperatury podłoża w pewnym zakresie może prowadzić do zwiększenia szybkości rozpylania i poprawy jakości folii.

5. Przepływ i skład gazu: Optymalizacja przepływu i składu gazu w komorze napylania może wpłynąć na szybkość napylania.Dostosowanie natężenia przepływu gazu i zastosowanie odpowiednich mieszanin gazów do rozpylania może zwiększyć wydajność procesu rozpylania.

Uważnie rozważając te czynniki i optymalizując parametry procesu napylania, możliwe jest zwiększenie szybkości napylania i poprawa ogólnej wydajności osadzania cienkowarstwowego w zastosowaniach napylania.