ਹੀਰੇ ਦੀ ਰਸਾਇਣਕ ਭਾਫ਼ ਜਮ੍ਹਾ (CVD) ਵਿਧੀ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ ਹੀਰੇ ਦੀ ਫਿਲਮ ਜਾਂ ਕੋਟਿੰਗ ਨੂੰ ਸੰਸਲੇਸ਼ਣ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਇਸ ਵਿਧੀ ਵਿੱਚ, ਇੱਕ ਗੈਸ ਮਿਸ਼ਰਣ, ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਹਾਈਡਰੋਕਾਰਬਨ ਗੈਸਾਂ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਮੀਥੇਨ, ਨੂੰ ਇੱਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਚੈਂਬਰ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਸਬਸਟਰੇਟ ਸਮੱਗਰੀ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਮੋਲੀਬਡੇਨਮ ਵੇਫਰ ਜਾਂ ਡਾਇਮੰਡ ਵੇਫਰਸ ਦੇ ਨਾਲ ਪੇਸ਼ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਫਿਰ ਗੈਸ ਨੂੰ ਹਾਈਡਰੋਕਾਰਬਨ ਦੇ ਅਣੂਆਂ ਨੂੰ ਤੋੜਨ ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਨੂੰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਉੱਤੇ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਲਈ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਤਰੀਕਿਆਂ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਗਰਮੀ ਜਾਂ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਦੁਆਰਾ ਸਰਗਰਮ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਜਿਸ ਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਹੀਰੇ ਦੇ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਵਧਦੇ ਹਨ।

ਹੀਰੇ ਦੀ ਸੀਵੀਡੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਕਈ ਫਾਇਦੇ ਪੇਸ਼ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਮੋਟਾਈ, ਇਕਸਾਰਤਾ ਅਤੇ ਰਚਨਾ ਦੇ ਸਟੀਕ ਨਿਯੰਤਰਣ ਦੇ ਨਾਲ ਉੱਚ-ਗੁਣਵੱਤਾ ਵਾਲੇ ਹੀਰੇ ਦੀ ਪਰਤ ਪੈਦਾ ਕਰਨ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਸ਼ਾਮਲ ਹੈ।ਇਹ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੀਆਂ ਸਬਸਟਰੇਟ ਸਮੱਗਰੀਆਂ 'ਤੇ ਹੀਰੇ ਦੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਨੂੰ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦੀ ਵੀ ਆਗਿਆ ਦਿੰਦਾ ਹੈ, ਕਈ ਕਿਸਮਾਂ ਦੇ ਉਦਯੋਗਿਕ ਅਤੇ ਖੋਜ ਕਾਰਜਾਂ ਲਈ ਹੀਰੇ-ਕੋਟੇਡ ਹਿੱਸੇ ਬਣਾਉਣ ਦੇ ਯੋਗ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ।

ਸਮੁੱਚੇ ਤੌਰ 'ਤੇ, ਹੀਰੇ ਦੀ ਸੀਵੀਡੀ ਵਿਧੀ ਸਿੰਥੈਟਿਕ ਹੀਰੇ ਦੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਅਤੇ ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੇ ਨਾਲ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ ਲਈ ਇੱਕ ਬਹੁਮੁਖੀ ਅਤੇ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤੀ ਜਾਂਦੀ ਤਕਨੀਕ ਹੈ, ਜੋ ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕਸ, ਕਟਿੰਗ ਟੂਲਸ, ਅਤੇ ਪਹਿਨਣ-ਰੋਧਕ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਵਰਗੇ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਕੀਮਤੀ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ।