ट्यान्टलम एक रासायनिक तत्व हो जसलाई टा र आणविक संख्या 73 को प्रतीक छ। पहिले ट्यान्टालियम भनेर चिनिन्थ्यो, यसको नाम ग्रीक पौराणिक कथाको खलनायक ट्यान्टालसबाट आएको हो। ट्यान्टलम एक दुर्लभ, कडा, नीलो-खैरो, चमकदार संक्रमण धातु हो जुन अत्यधिक जंग-प्रतिरोधी छ। यो अपवर्तक धातु समूह को एक भाग हो, जुन मिश्र मा साना घटक को रूप मा व्यापक रूप देखि प्रयोग गरिन्छ। ट्यान्टलमको रासायनिक जडताले यसलाई प्रयोगशाला उपकरणहरूको लागि मूल्यवान पदार्थ र प्लेटिनमको विकल्प बनाउँछ। आज यसको मुख्य प्रयोग मोबाइल फोन, डीभिडी प्लेयर, भिडियो गेम प्रणाली र कम्प्युटर जस्ता इलेक्ट्रोनिक उपकरणहरूमा ट्यान्टलम क्यापेसिटरहरूमा छ। ट्यान्टालम, सधैं रासायनिक रूपमा समान नाइओबियमको साथमा, खनिज समूह ट्यान्टलाइट, कोलम्बाइट र कोल्टन (कोलम्बाइट र ट्यान्टलाइटको मिश्रण, यद्यपि छुट्टै खनिज प्रजातिको रूपमा चिनिएको छैन) मा हुन्छ। ट्यान्टलमलाई टेक्नोलोजी-महत्वपूर्ण तत्व मानिन्छ।

भौतिक गुणहरू
ट्यान्टलम गाढा (नीलो-खैरो), बाक्लो, नरम, धेरै कडा, सजिलै संग निर्मित, र गर्मी र बिजुली को उच्च प्रवाहकीय छ। धातु एसिड द्वारा क्षरण प्रतिरोध को लागी प्रसिद्ध छ; वास्तवमा, 150 डिग्री सेल्सियस भन्दा कम तापमानमा ट्यान्टलम सामान्यतया आक्रामक एक्वा रेजिया द्वारा आक्रमण गर्न लगभग पूर्ण रूपमा प्रतिरक्षा हुन्छ। यसलाई हाइड्रोफ्लोरिक एसिड वा फ्लोराइड आयन र सल्फर ट्राइअक्साइड सहितको अम्लीय समाधानको साथसाथै पोटासियम हाइड्रोक्साइडको घोलसँग भंग गर्न सकिन्छ। ट्यान्टालमको उच्च पिघलने बिन्दु 3017 °C (उबलने बिन्दु 5458 °C) केवल धातुहरू र कार्बनका लागि टंगस्टन, रेनियम र ओस्मियमले तत्वहरूमध्ये पार गरेको छ।

ट्यान्टलम दुई क्रिस्टलीय चरणहरूमा अवस्थित छ, अल्फा र बीटा। अल्फा चरण अपेक्षाकृत नरम र नरम छ; यसमा शरीर केन्द्रित घन संरचना (स्पेस समूह Im3m, जाली स्थिर a = 0.33058 nm), Knoop कठोरता 200–400 HN र विद्युतीय प्रतिरोधात्मकता 15–60 µΩ⋅cm छ। बीटा चरण कडा र भंगुर छ; यसको क्रिस्टल सममिति टेट्रागोनल हो (स्पेस समूह P42/mnm, a = 1.0194 nm, c = 0.5313 nm), Knoop कठोरता 1000–1300 HN र विद्युतीय प्रतिरोधात्मकता 170–210 µΩ µΩ मा तुलनात्मक रूपमा उच्च छ। बिटा चरण मेटास्टेबल हुन्छ र 750-775 डिग्री सेल्सियसमा तताउँदा अल्फा चरणमा रूपान्तरण हुन्छ। बल्क ट्यान्टलम लगभग पूरै अल्फा चरण हो, र बिटा चरण सामान्यतया म्याग्नेट्रोन स्पटरिंग, रासायनिक वाष्प निक्षेप वा युटेटिक पिघलाएको नुन घोलबाट इलेक्ट्रोकेमिकल डिपोजिसनबाट प्राप्त पातलो फिल्महरूको रूपमा अवस्थित हुन्छ।