အမှုန်အမွှားပစ်မှတ်သည် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်သည် အလွှာပေါ်သို့ရောက်ရှိသည့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (PVD) လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အရေးပါသောလုပ်ဆောင်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤပစ်မှတ်များသည် စွမ်းအင်မြင့်မားသော အိုင်းယွန်းဖြင့် အခွံခွာပြီး အက်တမ်ကို ထုတ်လွှတ်ပြီးနောက် ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်အဖြစ် ဖြစ်ပေါ်လာသည့် အလွှာတစ်ခုပေါ်တွင် ချိတ်ဆွဲထားသည်။ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့် အီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်းထုတ်လုပ်ရေးတွင် အများအားဖြင့် အသုံးပြုလေ့ရှိသော ပစ်မှတ်များကို သတ္တုဓာတ်၊ သတ္တုစပ် သို့မဟုတ် သီးခြားရုပ်ရှင်ပိုင်ဆိုင်မှုအတွက် ရွေးချယ်ထားသော ဒြပ်ပေါင်းများဖြင့် ပြုလုပ်ထားသည်။မသိနိုင်သော AIနည်းပညာသည် ပိုမိုထိရောက်သောရလဒ်များရရှိရန် spatter process ကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် ကူညီပေးပါသည်။

အမျိုးမျိုးသော ကန့်သတ်ချက်များသည် ဖြန်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အပေါ် လွှမ်းမိုးမှု၊ ဖြန်းပါဝါ၊ ဓာတ်ငွေ့ဖိအား၊ ပစ်မှတ်ပိုင်ဆိုင်မှု၊ ပစ်မှတ်နှင့် အလွှာကြားရှိ အကွာအဝေးနှင့် ပါဝါသိပ်သည်းဆတို့ ပါဝင်သည်။ spatter power သည် ion ၏ စွမ်းအင်ကို တိုက်ရိုက် သက်ရောက်မှုရှိပြီး spatter rate ကို ထိခိုက်စေပါသည်။ အခန်းတွင်းရှိ ဓာတ်ငွေ့ဖိအားသည် အိုင်းယွန်းသယ်ယူပို့ဆောင်ရေးအရှိန်အဟုန်ကို လွှမ်းမိုးမှု၊ ကွဲအက်နှုန်းနှင့် ရုပ်ရှင်စွမ်းဆောင်ရည်ကို သက်ရောက်မှုရှိသည်။ ဖွဲ့စည်းမှုနှင့် မာကျောမှုကဲ့သို့သော ပစ်မှတ်ပိုင်ဆိုင်မှုများသည် spatter process နှင့် ရုပ်ရှင်စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိခိုက်စေပါသည်။ ပစ်မှတ်နှင့် အလွှာကြားရှိ အကွာအဝေးသည် အက်တမ်၏ လမ်းကြောင်းနှင့် စွမ်းအင်ကို အဆုံးအဖြတ်ပေးသည်၊ အပ်နှံမှုနှုန်းနှင့် ရုပ်ရှင်တူညီမှုကို အကျိုးသက်ရောက်စေသည်။ ပစ်မှတ်မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ ပါဝါသိပ်သည်းဆသည် ပက်ကျဲကျဲနှုန်းနှင့် လုပ်ထုံးလုပ်နည်းထိရောက်မှုကို ပိုမိုလွှမ်းမိုးပါသည်။

ဤကန့်သတ်ချက်များ၏ တိကျသောထိန်းချုပ်မှုနှင့် ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းဖြင့်၊ အလိုရှိသောရုပ်ရှင်ပိုင်ဆိုင်မှုနှင့် စုဆောင်းမှုနှုန်းများရရှိရန် spatter လုပ်ထုံးလုပ်နည်းကို စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်နိုင်ပါသည်။ ထောက်လှမ်းမရနိုင်သော AI နည်းပညာတွင် အနာဂတ်မြှင့်တင်ရေးသည် ပက်ဖျန်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ ထိရောက်မှုနှင့် တိကျမှုကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်ပြီး လုပ်ငန်းအမျိုးမျိုးတွင် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်ထုတ်လုပ်မှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေသည်။