စိန်၏ ဓာတုအငွေ့ထုတ်ခြင်း (CVD) နည်းလမ်းသည် ထိန်းချုပ်ထားသော ပတ်ဝန်းကျင်တွင် စိန်ဖလင်ကို ပေါင်းစပ်ရန် သို့မဟုတ် အပေါ်ယံအလွှာကို ပေါင်းစပ်ရန် ဓာတုဖြစ်စဉ်ကို အသုံးပြုထားသည်။ ဤနည်းလမ်းတွင်၊ ပုံမှန်အားဖြင့် မီသိန်းကဲ့သို့သော ဟိုက်ဒရိုကာဗွန်ဓာတ်ငွေ့များပါရှိသော ဓာတ်ငွေ့အရောအနှောကို မိုလီဘဒင်နမ်ဝေဖာများ သို့မဟုတ် စိန်ဝေဖာများကဲ့သို့သော အလွှာပစ္စည်းများနှင့်အတူ တုံ့ပြန်မှုခန်းတစ်ခုထဲသို့ ထည့်သွင်းသည်။ ထို့နောက် ဓာတ်ငွေ့သည် ဟိုက်ဒရိုကာဗွန်မော်လီကျူးများကို ဖြိုခွဲကာ ကာဗွန်အက်တမ်များကို အလွှာပေါ်သို့ အပ်နှံရန် အပူ သို့မဟုတ် ပလာစမာကဲ့သို့သော နည်းအမျိုးမျိုးဖြင့် အသက်သွင်းကာ စိန်ပုံဆောင်ခဲများ ကြီးထွားလာစေသည်။

စိန်၏ CVD လုပ်ငန်းစဉ်သည် အထူ၊ တူညီမှုနှင့် ဖွဲ့စည်းမှုတို့ကို တိကျသောထိန်းချုပ်မှုဖြင့် အရည်အသွေးမြင့် စိန်အပေါ်ယံပိုင်းကို ထုတ်လုပ်နိုင်မှုအပါအဝင် အားသာချက်များစွာကို ပေးဆောင်သည်။ ၎င်းသည် စက်မှုလုပ်ငန်းနှင့် သုတေသနဆိုင်ရာ အသုံးချမှုအမျိုးမျိုးအတွက် စိန်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသော အစိတ်အပိုင်းများကို ဖန်တီးနိုင်စေကာ အလွှာအမျိုးမျိုးတွင် စိန်ဖလင်များကို အပ်နှံနိုင်စေပါသည်။

ယေဘုယျအားဖြင့်၊ စိန်၏ CVD နည်းလမ်းသည် ပေါင်းစပ်ထားသော စိန်ရုပ်ရှင်များနှင့် အပေါ်ယံအလွှာများကို စိတ်ကြိုက်ဂုဏ်သတ္တိများဖြင့် ထုတ်လုပ်ရန် စွယ်စုံရအသုံးပြုသည့် နည်းပညာဖြစ်ပြီး ၎င်းတို့ကို လျှပ်စစ်ပစ္စည်း၊ ဖြတ်တောက်ခြင်းကိရိယာများနှင့် ခံနိုင်ရည်ရှိသော အပေါ်ယံအလွှာများကဲ့သို့သော စက်မှုလုပ်ငန်းများတွင် တန်ဖိုးကြီးစေသည်။