China tulen 99.95% tungsten sasaran cakera tungsten untuk industri Pengilang dan Pembekal |Tungsten palsu

cakera tungsten sasaran tungsten tulen 99.95% untuk industri

cakera tungsten sasaran tungsten tulen 99.95% untuk Imej Pilihan industri

Penerangan Ringkas:

Sasaran tungsten dan cakera tungsten biasanya digunakan dalam pelbagai aplikasi perindustrian, terutamanya dalam pemendapan filem nipis dan proses salutan.Tungsten terkenal dengan takat leburnya yang tinggi, kekonduksian haba yang sangat baik dan rintangan kakisan, menjadikannya bahan yang sesuai untuk aplikasi sedemikian.

Hantar e-mel kepada kami Muat turun sebagai PDF

Butiran Produk

Tag Produk

Apakah sasaran tungsten?

Sasaran tungsten ialah bahan khusus yang digunakan dalam proses pemendapan wap fizikal (PVD) dan biasanya digunakan untuk menghasilkan filem nipis untuk pelbagai aplikasi perindustrian.Sasaran tungsten biasanya dibuat daripada tungsten ketulenan tinggi dan direka untuk mendepositkan filem nipis ke substrat dalam sistem PVD.

Dalam proses PVD, sumber tenaga tinggi seperti pancaran elektron atau plasma digunakan untuk membedil sasaran tungsten, menyebabkan atom dikeluarkan daripada sasaran.Atom-atom yang dikeluarkan ini kemudiannya melalui kebuk vakum dan dimendapkan ke permukaan substrat, membentuk filem nipis.

Sasaran tungsten dinilai untuk takat leburnya yang tinggi, yang membolehkannya menahan suhu tinggi yang dijana semasa PVD.Selain itu, kekonduksian terma yang sangat baik dan rintangan kakisan tungsten menjadikannya bahan yang ideal untuk sistem PVD.

Filem nipis yang dihasilkan menggunakan sasaran tungsten mempunyai pelbagai aplikasi termasuk industri semikonduktor, optik, elektronik dan tenaga suria.Sifat filem, seperti kekonduksian, pemantulan dan kekerasan, boleh disesuaikan dengan melaraskan proses pemendapan, menjadikan sasaran tungsten sebagai alat serba boleh untuk pengeluaran filem nipis industri.

Mengapa tungsten digunakan sebagai bahan sasaran?

Tungsten digunakan sebagai sasaran dalam proses pemendapan wap fizikal (PVD) atas beberapa sebab:

1. Takat lebur tinggi: Tungsten mempunyai takat lebur tertinggi di antara semua logam, jadi ia sesuai untuk menahan suhu tinggi yang dihasilkan semasa proses PVD.Ini membolehkan sasaran tungsten menahan tekanan haba dan mengekalkan integriti strukturnya semasa pemendapan.

2. Kekonduksian terma: Tungsten mempunyai kekonduksian terma yang sangat baik dan membantu menghilangkan haba yang dijana semasa proses PVD.Sifat ini penting untuk mengekalkan kestabilan sasaran dan memastikan pemendapan filem yang seragam.

3. Lengai secara kimia: Tungsten mempunyai rintangan yang kuat terhadap tindak balas kimia dan kakisan, menjadikannya bahan yang ideal untuk proses PVD.Dalam proses PVD, bahan sasaran mesti kekal stabil dengan kehadiran gas reaktif atau plasma bertenaga tinggi.

4. Kualiti filem: Sasaran tungsten boleh menghasilkan filem berkualiti tinggi dengan sifat ideal seperti ketumpatan tinggi, keseragaman dan lekatan pada substrat, menjadikannya sesuai untuk pelbagai aplikasi perindustrian.

Secara keseluruhannya, gabungan unik sifat yang dipamerkan oleh tungsten, termasuk takat lebur yang tinggi, kekonduksian terma dan kestabilan kimia, menjadikannya pilihan sasaran yang sangat baik dalam proses PVD, yang mampu menghasilkan pelbagai filem berprestasi tinggi.Aplikasi perindustrian.