China molibdenum wafer molibdenum lembaran berlian dalam CVD Pengilang dan Pembekal

wafer molibdenum lembaran berlian molibdenum dalam CVD

wafer molibdenum kepingan berlian molibdenum dalam Imej Pilihan CVD

Penerangan ringkas:

Takat lebur molibdenum yang tinggi, kekonduksian terma dan lengai kimia menjadikannya sesuai untuk aplikasi CVD di mana kestabilan suhu tinggi dan rintangan kepada kereaktifan kimia adalah kritikal. Komponen ini boleh digunakan untuk menghasilkan peranti semikonduktor, salutan filem nipis dan bahan berasaskan berlian untuk pelbagai aplikasi perindustrian dan penyelidikan.

Hantar e-mel kepada kami Muat turun sebagai PDF

Butiran Produk

Tag Produk

Apakah kaedah CVD untuk berlian?

Kaedah pemendapan wap kimia (CVD) berlian melibatkan penggunaan proses kimia untuk mensintesis filem atau salutan berlian dalam persekitaran terkawal. Dalam kaedah ini, campuran gas, biasanya mengandungi gas hidrokarbon seperti metana, dimasukkan ke dalam ruang tindak balas bersama-sama dengan bahan substrat seperti wafer molibdenum atau wafer berlian. Gas kemudiannya diaktifkan dengan pelbagai cara, seperti haba atau plasma, untuk memecahkan molekul hidrokarbon dan mendepositkan atom karbon ke substrat, mengakibatkan pertumbuhan kristal berlian.

Proses CVD berlian menawarkan beberapa kelebihan, termasuk keupayaan untuk menghasilkan salutan berlian berkualiti tinggi dengan kawalan tepat ketebalan, keseragaman dan komposisi. Ia juga membenarkan pemendapan filem berlian pada pelbagai bahan substrat, membolehkan penciptaan bahagian bersalut berlian untuk pelbagai aplikasi perindustrian dan penyelidikan.

Secara keseluruhannya, kaedah CVD berlian ialah teknik yang serba boleh dan digunakan secara meluas untuk menghasilkan filem dan salutan berlian sintetik dengan sifat tersuai, menjadikannya berharga dalam industri seperti elektronik, alat pemotong dan salutan tahan haus.

Apakah kekerasan salutan CVD?

Kekerasan salutan pemendapan wap kimia (CVD) boleh berbeza-beza bergantung pada bahan khusus yang dimendapkan dan parameter proses yang digunakan. Walau bagaimanapun, salutan CVD terkenal dengan kekerasannya yang luar biasa, selalunya melebihi salutan pemendapan wap fizikal (PVD) tradisional.

Untuk salutan CVD berlian, kekerasan amat perlu diberi perhatian. Berlian adalah salah satu bahan yang paling sukar diketahui, dan salutan berlian CVD mempunyai kekerasan luar biasa yang selalunya melebihi jenis salutan lain. Kekerasan salutan berlian CVD biasanya diukur menggunakan skala kekerasan Vickers dan berjulat dari 8000 HV hingga lebih 10000 HV, menjadikannya salah satu bahan yang paling sukar dan paling tahan haus.

Untuk salutan CVD lain, seperti salutan berasaskan karbida atau nitrida, kekerasan juga boleh tinggi, memberikan rintangan haus dan ketahanan yang sangat baik dalam pelbagai aplikasi perindustrian.

Secara keseluruhannya, salutan CVD dinilai kerana kekerasannya yang luar biasa, menjadikannya sesuai untuk aplikasi di mana rintangan haus, kestabilan suhu tinggi dan prestasi jangka panjang adalah kritikal.